发明名称 改良式氯化镁电解槽
摘要
申请公布号 TW049101 申请公布日期 1983.02.16
申请号 TW07124210 申请日期 1981.12.10
申请人 石塚博 发明人 石塚博
分类号 C25B9/00;C25B11/00;C25B13/00 主分类号 C25B9/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一改良式氯化镁电解槽,其基本上包 含: 至少一对阳极和阴极电极;及至少一 双性中间电极置于该对电极间,该等 电极系以彼此隔开之方式排成一列且 各其主要表面实质上为垂直配置的。 一装载该等电极之电解式,及一与电 解室相附而以一隔板与之相隔的金属 收集室,又该隔板具有一开口以使载 有欲在金属收集室中淀积之镁金属的 电解浴可由此通.过而流至此收集室内 ;其特征为该等中间电极基本上由一 提供阳极面之大致平坦的石墨部份及 提供阴极面之铁部份组成,该两种材 料系用一种选自螺杆和锥形销之机构 相连在一起,而各该机构系由铁所构 成并且坚牢地固着于石墨上以确保其 间一密切的电气接触;该因此在两种 材料间形成之空穴系适切地与由一列 穿孔组成之一个开口相连,各该穿孔 具有与所相连之空穴着类似的末端横 截面并且具有沿着大致上呈不变之水 平或出电解室末端朝另外之室方向下 降的长度所形成之顶部;及为了尽可 能减少一对阳极和阴极间电流之漏失 ,该等电极整体安放在一电气绝缘平 台之升高顶部并且在一例电极之周围 较宜设有另一绝缘装置.2.如请求专利部份第1.项 之改良式电解 槽,其中该铁部份由单片组成。3.如讲求专利部份 第1.项之改良式电解 槽,其中该铁部份由数片组成。4.如请求专利部份 第3.项之改良式电解 槽,其中该铁部由一直行之数水平行 片条组成。5.如请求专利部份第3.项之改良式电解 槽,其中该铁部份由一横行之数垂直 片条组成。6.如请求专利部份第1.项之改良式电解 槽,其中该中间电极之铁部份大致上 系安排为与石墨部份平行。7.如请求专利部份第1. 项之改良式电解 槽,其中该中间电极之铁部份系向上 收敛。8.如请求专利部份第7.项之改良式电解 槽,其中中间电极之每一顶缘及底线 于相邻隔板一端自石墨部份隔开之距 离至少系如在电极相对末端者。9.如请求专利部 份第7.项之改良式电解 槽,其中该铁部份大致上呈现一共同 平坦外表面。10.如请求专利部份第7.项之改良式 电解 槽,其中该铁部份呈现至少部份倾向 石墨部份之外表面。11.如论求专利部份第7.项之 政良式电解 槽,其中该铁部份大致上系由具有一 于其上部弯曲朝向石墨部份之连续铁 片组成。12.如请求专利部份第7.项之改良式电解 槽,其中该铁部份系由共同倾向石墨 部份并共同与之隔开的数水平片条组 成。13.如请求专利部份第8.项之改良式电解 槽,其中在铁及石墨部份间间距系沿 向着隔板方向不断减少。14.如请求专利部份第8. 项之改良式电解 槽,其中在铁及石墨部份间间距系向 着隔板之方向按步减少。15.正如请求专利部份第1 .项之改良式电解 槽,其中每一该等电极系以其主要表 面大致垂直之方式安排于电解槽中。16.如请求专 利部份第1.项之改良式电解 槽,其中每一该等电极系以其主要表 面稍许与垂直线倾斜之方式安排于电 解槽中,而中间电解之铁部份跨在石 墨部份之上。17.如请求专利部份第1.项之改良式 电解 槽,其中全部电极系以相邻电极之铁 及石墨相邻面大致上彼此平行之方式 安排于电解槽中。 18如请求专利部份第1.项之改良式电解 槽,其中各电极系以相邻电极之石墨 及铁相对面稍为向上分散之方式安排 于电解槽中。 19.如请求专利部份第1.项之改良式电解 槽,其中该隔板具有一排横截面与空 穴者类似之穿孔,空穴及孔之底部大 致上在相同水平。 20.如请求专利部份第1.项之改良式电解 槽,其中该隔板具有一排横截面与空 穴者类似之穿孔,而其底部自空穴者 作略为地升高。 21.如请求专利部份第19.或20.项之改良式 电解槽,其中该等孔之横截面实质上 为平行四边形。 22.如请求专利部份第19.或20.项之改良式 电解槽,其中该等孔之横截面实质上 为矩形。 23.如请求专利部份第19.或20.项之改良式 电解槽,其中该等孔于其一电解室末 端有一顶部超过中间电极顶部但在一 电解液表面水平之下。 24.如请求专利部份第23.项之改良式电解 槽,其中该下降之孔顶部终止于孔之 金属收集室末端。 25.如请求专利部份第23.项之改良式电解 槽,其中孔顶下降终止于末至孔之金 属收集处。 26.如请求专利部份第1.项之改良式电解 槽,其中该隔板系设有至少一电气绝 缘部份伸入金属收集室中,与一单性 电极相邻,至少覆盖室之电解液表面 水平。 27.正如请求专利部份第26.项之改良式电解 27.槽,其中该电性电极为阳极。
地址 日本国东京都品川区荏原6丁目19番2号
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