| 主权项 |
1.制备下式化合物之制法 其中: X为氢,(C1-C3)烷基,(C1 -C3)烷氧基,氟,氯,溴, 或三氟甲基; R为氢或(C1-C3)烷基; n为l至4,m为0,l或2; R1为(C1-C3)烷基; 其特点为: (a)使下式化合物水解 其中X,R,n,m和R之定义同上 ; P为可藉前述水解选择去除之硫保 护基; R2为可藉前述水解选择去除之酸 保护基; 于水液或醇溶剂内,在0-50℃ 及强硷存在下, 即当化合物为式(Ⅲa)或(Ⅳa )之醇时于至少一当量强硷, 而当化合物为式(Ⅴ)或(Ⅵ) 之酯时,于至少二当量强硷存在下进行 行反应。 (b)藉部份结晶或层析法分离下式化合 物之非对映立体异构物混合物得该 非对映立体异构物。 或 其中X,R,n,m及R1之定义 同上; (c)根据上述(a)之方法水解下式化合物 之非对映立体构物之混合物;及按 上述(a)所述方法由生成之非对映立 体异构物混合物中分离出个别非对 映立体异构物混合物: 或 其中X,R,n,m,R1,P及R2 之定义同上; (d)根据上述(a)及(b)之方法分离式(ⅩⅠ )或式(ⅩⅡ)化合物中之非对映立 体异构物以及水解分离后之非对映 立体异构物; (e)将下式化合物之醯基氯 在一反应惰性溶剂内于0-50℃ 之温度及至少一莫耳当量之三级胺 存在时与下式化合物偶合; 或 以及按上述(a)及(b)之方法分离生成 之非对映立体异构物再水解,或者 水解及分离生成之非对映立体异构 物; 其中X,R,n,m,R1,P及 R2之定义同上; (f)使下式化合物之醯基氯: 或 与式(ⅩⅣ)或式(ⅩⅤ)之化合物依 上述(g)之方法偶合并依上述(a)之方 法水解生成之中间产物。 其中P和X之定义同上;且如必要 可有下一项; (g)将生成之式(Ⅲ)或式(Ⅳ)化合 物转化成药物合格阳离子盐。2.根据上述请求专 利部份第1.项用以制 备一化合物(n为2,m为O且R1 为甲基)之方法。3.根据上述请求专利第2.项用以 制备一 化合物(R为氢)之方法。4.根据上述请求专利第4.项 用以制备一 化合物(Ⅹ为对-氯基)之方法。5.根据上述请求专 利第3.项用以制备一 化合物(Ⅹ为对-甲氧基)之方法。6.根据上述请求 专利第3.项用以制备一 化合物(Ⅹ为氢)之方法。7.根据上述请求专利第6. 项用以制备式 (Ⅰ)化合物之方法。8.根据上述请求专利第6.项用 以制备式 (Ⅱ)化合物之方法。9.根据上述请求专利第1.项用 以制备式 (Ⅲ)化合物之方法。10.根据上述请求专利第1.项用 以制备式 (Ⅳ)化合物之方法。 |
