| 主权项 |
1﹒一种在片状基质上涂敷光敏性层与一光罩对齐基质之光幅射造像方式曝光之方法,包含步骤有:(1)进底质至装置内一位置以随意依序或同时从事(a)排准基底与一光罩成一预先的相互关系;(b)在基底与光罩中间涂敷一光敏性液体;(a)基底与光罩经光敏性液体接触,使于该接触期间除因液层内光敏性液之移实有一更紧密接触外光罩相对基底实质上不发生运动,且使界面成黏滞力中至少有一项帮助保持基底及光罩相对在一固定位置;(3)经光罩曝露光敏性液体于光化辐射(4)移开光罩与基底使由光敏性液体所产生之固化物质实质上无残留于光罩上;(5)获得一基底含有由光敏性液体产生的分立部分之黏合的固化物质。2﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中基质表面实质平滑。3﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中基质表面含凸起部份,面向光罩之光敏性液层表面在光敏性液体对光化辐射曝光前实质平滑。4﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,使基底与光罩中间之光敏性液体移置,而靠一推进捏挟使基底与光罩获得更紧密接触。5﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液体系涂敷于一保持大致垂直平面之基质表面上。6﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液体系涂敷于一保持大致水平平面之基质表面上。7﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液体系涂敷于面向基底之光罩表面上。8﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液体系涂敷于面向光罩之基底表面上。9﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中当基底与光罩藉一推进线压力使件更紧密接触时基底与光罩中间之光敏性液体经移置。10﹒根据上述请求专利部份第9﹒项之方法,其中该推进线压力采用一种捏挟。11﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液体系涂敷于经光化辐射曝光的片状基质之两面。12﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液层系负工作性。13﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液层系正工作性。14﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液体含一光能固化的组份。15﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中光敏性液体含一光能固化的可加紧的组份。16﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中基底在涂敷光敏性液体之前并于涂覆之同一边含一光敏性层。17﹒根据上述请求专利部份第13﹒项之方法,其中二米敏层同时曝光于光化辐射。18﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中用许多基底获得实质全同的成像基底。19﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中在涂敷光敏性液体前先涂覆一较低黏度流体于基底。20﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中第五步后立即涂敷显影剂于黏结的固化物质上。21﹒根据上述请求专利部份第20项之方法,其中于基底在一大致垂直平面时及于光罩脱离基底期间或于脱离后立即涂施显影剂。22﹒一种在片状基质上或在片状基质之反面涂敷光敏化层及造像方式曝光于化辐射之方法,包括步骤有:(1)推进底质于一直立位置以随意依序或同时从事(a)排准基底与一含二韧性片状部份之光罩,其中每一片状部份面向基底之相反面;(b)在每一基底表面与光罩之每一韧性片状部份中间涂敷光敏性液体(2)基底与光罩经光敏性液体接触,使于该接触期间除因二液层内光敏性液之移置有一更紧密接触外光罩相对基底实质上不发生运动,且使界面或黏滞力中至少有一项帮助保持基底及光罩相对在一固定位置;(3)随意顺序或同时经光罩之片状部份曝光二光敏性液层中每一层于光化辐射;(4)界面二液层经光化辐射曝光后顺序或同时移开光罩之每一片状部份;(5)移开含有由光敏化液体所得黏合固化物质的分立部份之基底,使实质上无光敏性液体产生之固化物质残留于光罩内,于是能重复一至五步。23﹒根据上述请求专利部份第22项之方法,其中同样片状基底重复第一至五步以获得实质全同的造像基底。24﹒一种在光罩与基底对齐的片状基底上造像曝光一光敏性层于光化辐射之方法,包含步骤有:(1)在基质与光罩中间构成一光敏性液体层;(2)对齐光罩与基底使光罩与基底间除因液体移置而更紧密接触外光罩在光敏性液层上相对基底实质上不发生运动;(3)光敏性液体经光罩曝光于光化辐射(4)移开基底上光罩;(5)获得含有由光敏性液体产生黏合固化物质分立部分之基底。 |
