| 主权项 |
1.一组能相互对齐的片状基质对齐并造像曝光于光化辐射以产生一种复合影像之方法,每一基底含一九敏层,其步骤包括:(1)推送一基质至一装置内定位使随意顺序或同时从事(a)对准基质与一光罩便相互成一预定关系;(b)在光敏层与光罩中间涂施一种液体;(a)含光敏层之基质与光罩经液体接触,使该接触期间除因在该接触中液体自液层移置发生更紧密接触外光敏层相对光罩实质上不发生运动,且使由于液层之界面或黏滞力中之至少一种帮助保持光敏层与光罩互相在一相对固定位置内;(3)光敏层经光罩曝光于光化辐射;(4)怕己曝光的光敏层处移开光罩,自装置中取出已曝光的基底;(5)用至少一外加光罩使该粗中每一片状基质重复第1至4步,由此已曝光基质可相互对齐产生一复合影像。2.根据上述请求专利部份第1.项之方法,当基底与光罩为一推进压力线促使更紧密接触时光敏层与光罩中间之液体经移置。3.根据上述请求专利部份第2.项之方法,其中该推进压力线采用一种捏挟。4.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中液体涂覆于一保持大致垂直平面之基底表面上。5.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中第1至4步内基底表面保持一大致垂直平面内。6.根据上述请求专利部份第2.项之方法,其中基底保持在大致垂直平面内。7.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中光敏层系正工作性。8.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中光敏层系负工作性。9.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中光致层台一光能固化的组份。10.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中光敏层台一光能固化的可加紧化之组份。11.根据上述请求专利部份第9.项之方法,其中光能固化的组份系光能交联的或光能二聚化的.。12.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中光罩系纫性的。13.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中光敏层表面经液体直接接触光罩。14.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中光敏层为一能容光化辐射通过之盖片或层与液体层隔开。15.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其中液体包括水。 |
