MIXER COUPLING LENS SUBASSEMBLY FOR PHOTOLITHOGRAPHIC SYSTEM.

摘要

Un système d'éclairage de masque destiné à être utilisé dans la production de dispositifs à semiconducteurs comprend un assemblage optique (42) possédant un plan focal interne correspondant au masque (56). Un assemblage de masquage de bord à réticule (REMA) (46) est disposé sur le plan focal interne et permet de définir un motif lumineux qui est projeté sur le masque. Le fait de disposer l'assemblage de masquage de bord à réticule dans un plan focal séparé du plan du masque permet de réduire le flou provoqué par la diffraction de champ proche et permet de faciliter l'utilisation d'assemblages REMA plus complexes.