发明名称 PLASMA PROCESSING METHOD
摘要 본 발명은, 플라즈마 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 일 실시형태의 플라즈마 처리 방법은, 플라즈마 처리 장치의 처리 용기의 내벽면에 보호막을 형성하는 보호막 형성 공정과, 처리 용기 내에 있어서 피처리체에 대한 처리를 실행하는 처리 공정을 포함한다. 보호막 형성 공정에서는, 배치대와 처리 용기의 측벽 사이의 공간의 위쪽으로부터 보호막 형성용 가스가 공급되어, 플라즈마가 생성된다. 처리 공정에서는, 배치대의 위쪽으로부터 피처리체의 처리용 가스가 공급되어, 플라즈마가 생성된다.
申请公布号 KR20160149151(A) 申请公布日期 2016.12.27
申请号 KR20160073526 申请日期 2016.06.14
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 무라카미 히라쿠;사사키 노부타카;센자키 시게루;반세 다카노리;츠지모토 히로시;도요다 게이고
分类号 H01J37/32;H05H1/46 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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