| 主权项 |
1.如下式头孢子菌素或其盐之制法: 式中R1为氢或羧基保护基;R2为 如下式之基: 但R6为氢,羟基,硝基,胺甲醯, 硫胺甲醯,胺磺醯,或取代或未取代 之烷基,烯基,炔基,二烯基,环烷 基,环烯基,环二烯基,芳基,芳烷 基,醯基,烷氧基,烷硫基,醯氧基 ,环烷氧基,芳氧基,烷氧羰基,环 烷氧羰基,醯氧羰基,芳烷氧羰基, 烷磺醯,环烷磺醯,芳磺醯,杂环磺 醯,烷胺甲醯,二烷胺甲醯,烷硫胺 甲醯,二烷硫胺甲醯,醯胺甲醯,醯 硫胺甲醯,烷磺醯胺甲醯,芳磺醯胺 甲醯,烷磺醯硫胺甲醯,芳磺醯硫胺 甲醯,烷胺磺醯,二烷胺磺醯,烷氧 硫羰基,亚烷胺基,环烷亚甲胺基, 芳亚甲胺基,杂环亚甲胺基或杂环基 R16 ,或如下式之基,-N R17 (R16及R17可相同或相异各为氢或 烷基,或R16及R17与邻近之氮原子 共成一环);R7,R8,R9, R10,R11,R12,R14及R15可相 同或相异,各为氢,卤素或取代或未 取代烷基,芳烷基或芳基;R13为氢 ,卤素,羧基,磺酸基,胺甲醯或硫 胺甲醯,或取代或未取代烷基,芳烷 基,芳基,烷氧基,烷硫基,醯基, 烷氧羰基,环烷氧羰基,醯氧羰基, 芳烷氧羰基,烷磺醯,环烷磺醯,芳 磺醯,杂环磺醯,烷胺甲醯,二烷胺 甲醯,烷硫胺甲醯,二烷硫胺甲醯, 醯胺甲醯,醯硫胺甲醯,烷磺醯胺甲 醯,芳磺醯胺甲醯,烷磺醯硫胺甲醯 或芳磺醯硫胺甲醯;R3为氢或烷氧 基;R4为氢或卤素;R5为氢或被 保护或未保护胺基;A为-CH2-或 -C- 但R18为氢,取代或未取代 烷基,烯基,炔基,环烷基,环烯基 ,芳烷基,芳基,杂环基或羟基保护 基;或为- (R19及R20 可相同或相异,各为羟基,烷基,芳 烷基,芳基,烷氧基,芳烷氧基或芳 氧基),一键乃示此化合物可为同式 异构物或逆式异构物或其混合物,此 包括: [A]令如下式化合物或其盐 式中R28为胺基或 但R31,R32及R33可相同或相异, 各为氢或不参予反应之有机余基,或 为 ,但R34及R35 可相同或相异,各为氢或不参予反应 之有机余基,R1,R2及R3同上 ,与如下式化合物或其在羧基之反应 性衍生物反应 式中R4,R5及A同上,或 [B]令如下式化合物或其盐 式中X为卤素,R1,R2,R3及 A同上,与如下式化合物反应 式中R5同上, [C]令如下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R4及R5同上, 与如下式化合物或其盐反应: 式中R18同上,必要时在[A],[ B]或[C]之步骤后,去除保护基 ,将羧基子以保护或将产品转变成其 盐。2.依请求专利部份第1.项之制法,其中 R3为氢。3.依请求专利部份第1.或2.项之制法, 其中R5为氢。4.依请求专利部份第1.-3.任一项之制 法,其中R5为胺基。5.依请求专利部份第1.-4.任一项 之制 法,其中A为-C-但R18及一键同 同请求专利部分第1.项之规定。6.依请求专利部分 第5.项之制法,其中 R18为取代或未取代烷基。7.依请求专利部份第1.-6. 任一项之制 法,其中A为 (同式异构物)。8.依请求专利部份第1.-6.任一项之 制 法,其中A为 (同式异构物),但R1同请求专利 部分第1.项之规定。9.依请求专利部份第1.-6.任一 项之制 法,其中A为 (同式异构物),但R1同请求专利 部分第1.项之规定。10.依请求专利部分第1.-9.任一 项之制 法,其中R2为 但R6 同请求专利部份第1.项之规定。11.依请求专利部 份第10.项之制法,其中 R6为氢,杂环基,取代或未取代之 烷基,芳烷基,或环烷基,或 ,但R16及R17同请求 专利部份第1.项之规定。12.依请求专利部份第10. 项之制法,其中 R6为氢,取代或未取代之烷基,芳 烷基,环烷基,或 但R16及R17同请求专 利部分第1.项之规定。13.依请求专利部分第1.-9.任 一项之制 法,其中R2为 但R7 ,R8及R9同请求专利部分第1.项 之规定。14.依请求专利部份第13.项之制法,其中 R7,R8及R9可相同或相异各为 氢或烷基。15.依请求专利部份第1.-9.任一项之制 法,其中R2为 但R10,R11,及R12同请求专利部分 第1.项之规定。16.依请求专利部份第15.项之制法, 其中 R10,R11及R12可相同或相异,各 为氢,卤素或烷基。17.依请求专利部份第1.-9.任一 项之制 法,其中R2为 但R13,R14及R15同请求专利部份 第1.项之规定。18.依请求专利部份第17.项之制法, 其中 R13,R14及R15可相同或相异,各 为氢或烷基。19.依请求专利部分第1.项之制法,以 制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1-(2,3-二氧 -1,2,3,4-四氢 基)] 甲基}-3-哂吩-4-羧酸,其 酯或其盐。20.依请求专利部份第1.项之制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-羧甲氧亚胺乙醯 胺基]-3-{[1-(2,3-二 氧-1,2,3,4-四氢 基) ]甲基}-3-哂吩-4-羧酸, 其酯或其盐。21.依请求专利部份第1.项之制法,以 制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1-(4-甲基-2 ,3-二氧-1,2,3,4-四氢 基)]甲基}-3-哂吩-4 -羧酸,其酯或其盐。22.依请求专利部分第1.项之制 法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯 胺基]-3-{[1-(4-甲基-2 ,3-二氧-1,2,3,4-四 氢 基)]甲基}-3-哂吩- 4-羧酸,其酯或其盐。23.依请求专利部分第1.项之 制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1-(4-乙基-2 ,3-二氧-1,2,3,4-四氢 基)]甲基}-3-哂吩-4 -羧酸,其酯或其盐。24.依请求专利部分第1.项之制 法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯 胺基]-3-{[1-(4-乙基- 2,3-二氧-1,2,3,4-四 氢 基)]甲基}-3-哂吩- 4-羧酸,其酯或其盐。25.依请求专利部份第1.项之 制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1-(4-异丙基- 2,3-二氧-1,2,3,4-四 氢 基)]甲基}-3-哂吩- 4-羧酸,其酯或其盐。26.依请求专利部份第1.项之 制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1-(4-二甲胺基 -2,3-二氧-1,2,3,4- 四氢 基)]甲基}-3-哂吩 -4-羧酸,其酯或其盐。27.依请求专利部份第1.项之 制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-羧甲氧亚胺乙醯 胺基]-3-{[1-(4-二甲胺 基-2,3-二氧-1,2,3,4 -四氢 基)]甲基}-3-哂 吩-4-羧酸,其酯或其盐。28.依请求专利部份第1.项 之制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1-(2-氧-1, 2-二氢 基)]甲基}-3- 哂吩-4-羧酸,其酯或其盐。29.依请求专利部分第1. 项之制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1-(3,6-二氧 -1,2,3,6-四氢哒 基)] 甲基}-3-哂吩-4-羧酸,其 酯或其盐。30.依请求专利部份第1.项之制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-羧甲氧亚胺乙醯 胺基]-3-{[1-(3,6-二 氧-1,2,3,6-四氢哒 基) ]甲基}-3-哂吩-4-羧酸, 其酯或其盐。31.依请求专利部分第1.项之制法,以 制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-甲氧亚胺乙醯胺 基]-3-{[1 -(3-甲基-6 -氧-1,6-二氢哒 基)]甲基 }-3-哂吩-4-羧酸,其酯或 其盐。32.依请求专利部份第1.项之制法,以制 造7-[2-(2-胺基 唑-4- 基)-2-(同)-羧甲氧亚胺乙醯 胺基]-3-{[1 -(3-甲基- 6-氧-1,6-二氢哒 基)]甲 基}-3-哂吩-4-羧酸,其酯 或其盐。33.依请求专利部分第1.项之制法,乃令 如下式化合物或其盐 式中R1,R2,R3及R26同请求 专利部份第1.项之规定,与如下式化 合物或其在羧基之反应性衍生物反应 : 式中R4,R5及A同请求专利部份 第1.项之规定,然后必要时去除保护 基,将羧基予以保护或将产品转变成 其盐。34.依请求专利部份第33.项之制法,其中 A为-C- 但R18及一键同请求专 利部分第1.项之规定。35.依请求专利部分第33.或34 .项之制法, 其中反应乃在-50-40℃进行。36.依请求专利部分第1 .项之制法,以制 造如下式化合物或其盐。 式中R1,R2,R3,R5及A同 请求专利部份第1.项之规定,此乃令 如下式化合物或其盐 式中R1,R2,R3,A及X同请 求专利部分第1.项之规定,与如下式 化合物反应: 式中R5同请求专利部分第1.项之规 定,然后必要时擒保护基去除,将羧 基予以保护或将产品转变成其盐。37.依请求专利 部份第36.项之制法,其中 A为-C- 但R18及一键同请求专 利部分第1.项之规定。38.依请求专利部分第36.或37 .项之制法, 其中反应乃在0-100℃进行。39.依请求专利部份第1. 项之制法,以制 造如下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R5,R16 及一键同请求专利部分第1.项之规定 ,此乃令如下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R4及R5 同请求专利部份第1.项之规定,与如 下式化合物或其盐反应: 式中R18同请求专利部分第1.项之规 定,然后必要时去除保护基,将羧基 保护或将产品转变成其盐。40.依请求专利部分第 39.项之制法,其中 反应乃在0-100℃反应。41.如下式7-(取代或未取代 胺基)- 3-取代甲基-3-哂吩-4-羧 酸或其盐之制法: 式中R1为氢或羧基保护基;R2为 如下式基: 但R6为氢,羟基,硝基,胺甲醯, 硫胺甲醯,胺磺醯,或取代或未取代 之烷基,烯基,炔基,二烯基,环烷 基,环烯基,环二烯基,芳基,芳烷 基,醯基,烷氧基,烷硫基,环氧基 ,环烷氧基,芳氧基,烷氧羟基,环 烷氧羰基,环氧羰基,芳烷氧羰基, 烷磺醯,环烷磺醯,芳磺醯,杂环磺 醯,烷胺甲醯,二烷胺甲醯,烷硫胺 甲醯,二烷硫胺甲醯,环胺甲醯,环 硫胺甲醯,烷磺醯胺甲醯,芳磺醯胺 甲醯,烷磺醯硫胺甲醯,芳磺醯硫胺 甲醯,烷胺磺醯,二烷胺磺醯,烷氧 硫羰基,亚烷胺基,环烷亚甲胺基, 芳亚甲胺基,杂环亚甲胺基或杂环基 ,或如下式之基: ( R16及R17可相同或相异各为氢或烷 基,或R16及R17与邻近之氮原子共 成一环);R7,R8,R9,R10 ,R11,R12,R14及R15可相同或 相异,各为氢,卤素或取代或未取代 烷基,芳烷基或芳基;R13为氢,卤 素,羧基,磺酸基,胺甲醯或硫胺甲 醯,或取代或未取代烷基,芳烷基, 芳基,烷氧基,烷硫基,醯基,烷氧 羰基,环烷氧碳基,醯氧羟基,芳烷 氧羰基,烷磺醯,环烷磺醯,芳磺醯 ,杂环磺醯,烷胺甲醯,二烷胺甲醯 ,烷硫胺甲醯,二烷硫胺甲醯,醯胺 甲醯,醯硫胺甲醯,烷磺醯胺甲醯, 芳磺醯胺甲醯,烷磺醯硫胺甲醯或芳 磺醯硫胺甲醯;R3为氢或烷氧基; R28为胺基, 但R31,R32及R33可相同或相异, 各为氢或不参与反应之有机残基, ,R34及R35可相同 或相异,各为氢或不参予反应之有机 余基, 此制法乃令如下式头孢子菌素烷酸或 其在羧基之衍生物或其盐: 式中R1,R3及R28同上,R29为 取代或未取代醯氧基或胺甲醯氧基; Z为 >S或>S→O,与如下式化 合物或其盐: 式中R6,R7,R8,R9,R10 ,R11,R12,R13,R14及R15同 上,在酸或此酸之错合物之存在下反 应后,必要时将反应产物2-哂吩 化合物转变为3-哂吩化合物去除 保护基,将羧基予以保护,或将产品 转变成其盐。42.依请求专利部分第41.项之制法,以 制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R3为氢。43.依请求专利部分第42.项之制 法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R28为胺基。44.依请求专利部分第43.项之 制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R2为 但R6 同请求专利部分第41.项之规定。45.依请求专利部 分第44.项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R6为氢、杂环基或取代 或未取代之烷基,芳烷基或环烷基, ,但R16及R17同请求 专利部分第41.项之规定。46.依请求专利部份第45. 项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R6为二烷胺基或氢,或 可被烷醯氧基或羧基任意取代之烷基 ,芳烷基或环烷基,或 -C=C-R24(但R24为低烷基) 。47.依请求专利部分第44.项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R6为氢或取代或未取代 之烷基,芳烷基或环烷基,或 但R16及R17同请求专 利部分第41.项之规定。48.依请求专利部分第47.项 之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R6为二烷胺基或氢,或 可任意被醯氧基取代之烷基,芳烷基 或环烷基。49.依请求专利部分第43.项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R2为 但 R7,R8及R9同请求专利部分第 41.项之规定。50.依请求专利部分第49.项之制法,以 制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R7,R8及R9可相同 或相异,各为氢或烷基。51.依请求专利部分第43.项 之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R2为 但R10,R11及R12同请求专利部分 第41.项之规定。52.依请求专利部分第51.项之制法, 以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R10,R11及R12可相同 或相异,各为氢,卤素或烷基。53.依请求专利部分 第43.项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R2为 但R13,R14及R15同 请求专利部分第41.项之规定。54.依请求专利部分 第53.项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中R13,R14及R15可相同 或相异,各为氢,卤素或烷基。55.依请求专利部分 第42.项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中酸或酸之错合物为路易士 酸或路易士酸之错合物。56.依请求专利部分第55. 项之制法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中路易士酸或其错合物为二 氟化硼或其错合物。57.依请求专利部分第41.-56.任 一项之制 法,以制造7-(取代或未取代胺基 )-3-取代甲基-3-哂吩-4 -羧酸或其盐,其中反应乃在有机溶 剂之存在下进行。58.依请求专利部分第57.项之制 法,以制 造7-(取代或未取代胺基)-3- 取代甲基-3-哂吩-4-羧酸或 其盐,其中有机溶剂为有机羧酸,酯 ,硝基烷或四亚甲 (sulfolane) 。59.依请求专利部分第41.-58.任一项之制 法,以制造7-(取代或未取代胺基 )-3-取代甲基-3-哂吩-4 -羧酸或其盐,其中R29为乙醯氧基 。60.依请求专利部分第41.-59.任一项之制 法,以制造7-(取代或未取代胺基 )-3-取代甲基-3-哂吩-4 -羧酸或其盐,其中反应乃在0- 80℃进行。 |
