| 主权项 |
1.一种录放影机用磁头,其特征为:在由非晶质,结晶质或其混合相所构成之超急冷合金基块中,将第2相粒子之至少一种以3次元的均匀分散而构成复合材料,以该复合材料构成磁路之至少一部份。2.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:超急冷合金基块系以钴为主成分之钴系非晶质合金。3.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:超急冷合金基块系以镍为主成分之镍系非晶质合金。4.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:超急冷合金基块系以铁为主成分之铁系非晶质合金。5.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系碳化合物。6.如请求专利部份第5.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系碳化钨。7.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系碳。8.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系氧化物。9.如请求专利部份第8.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系氧化铬。10.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系氮化合物。11.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系釸酸盐。12.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子为金属。13.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:均匀分散于超急冷合金基块中之第2相粒子之中,大约70%以上之第2相粒子之粒径为小于0.1m。14.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:复合材料系由薄板构件制成,而以将特定片数之此等薄板构件层叠而成之叠层体构成磁心部。15.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:复合材料系将构成超急冷合金基块之合金母材加热熔融之后,在该合金母材凝固之前,将第2相粒子与由惰性气体构成之喷射母体一起喷射分散于合金母材中,然后将之冷却而制成均匀的分散有第2相粒子之锭,将该锭再熔融成第2相粒子不熔解之程度而获得之复合材料。16.如请求专利部份第1.项之录放影机用磁头,其特征为:复合材料系将构成超急冷合金基块之合金母材加热熔融成为使第2相粒子不溶解之程度,在该合金母材凝固之前,将第2相粒子与由惰性气体所构成之喷射媒体一起喷射分散于合金母材中,然后超急冷却凝固而制得之复合材料。17.如请求专利部份第15.项或16.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系对超急冷合金基块之湿润性不佳金属。18.如请求专利部份第17.项之录放影机用磁头,其特征为:第2相粒子系氧化铬。18.如请求专利部份第15.项或16.项之录放影机用磁头,其特征为:均匀分散于超急冷合金基块中之第2相粒子之中,大约70%以上之第2相粒子之粒径小于0.1m。系对超急冷合金基块之湿润性不佳 |
