发明名称 阴蔽罩之制造方法
摘要
申请公布号 TW065080 申请公布日期 1985.02.16
申请号 TW073102940 申请日期 1984.07.18
申请人 东芝股份有限公司 发明人
分类号 C23F11/00 主分类号 C23F11/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种阴蔽罩之制造方法,该方法系形成与金属薄板之一方表面之开孔领域对应之另一表面之开孔领域不相同之多个有规则地排列之透孔,其特征为:将金属薄板两面之作为开孔领域之特定部份以外之部份以耐刻蚀抗蚀剂膜被覆,只对金属薄板之下侧之面实施前段刻蚀而形成特定之凹部,不实施刻蚀之上侧之面则予以保护使其不附着刻蚀液,将形成凹部之面予以水洗而将抗蚀剂膜剥离并予以水洗,将金属板反转而使形成凹部之金属面朝上,在该面形成刻蚀抗拒层,在前段刻蚀终了后至抗拒层形成为止之工程中未形成凹部之面则予以水洗,并保护其不使抗蚀剂膜剥离液及抗拒层材料附着,只将未形成抗拒层之面朝下而实施后段刻蚀而形成特定之凹部,利用后段刻蚀将透孔贯穿形成为特定形状后予以水洗而将抗拒层及抗蚀剂膜剥离并水洗乾燥,而形成具有直径小于金属薄板之板厚之透孔之阴蔽罩2如请求专利部份第1.项之制造方法,其特征为:在前段之刻蚀时,系以有机合成膜保护未实施刻蚀之面。3如请求专利部份第1.项之制造方法,其特征为:在前段之刻蚀时,系以环轮状而可循环使用之磁性薄片保护未实施刻蚀之面。4如请求专利部份第1.项之制造方法,其特征为:在前段之刻蚀时,系以具有防止液状物溅散附着用遮蔽板之刻蚀室保护未实施刻蚀之面。
地址 日本