| 摘要 |
진공 분위기에 제공되는 광학 소자의 온도를 제어하기 위한 장치가 제공된다. 상기 온도 제어 장치는 복사 열전달에 의해 광학 소자를 냉각시키기 위해 광학 소자로부터 이격 배치되는 복사 냉각부를 갖는 냉각 장치를 갖는다. 제어기는 복사 냉각부의 온도를 제어하는 작용을 한다. 상기 온도 제어 장치는 광학 소자를 가열하기 위한 가열부를 추가로 포함한다. 상기 가열부는 가열부의 온도를 제어하기 위한 제어기에 연결된다. 결과적인 온도 제어 장치는 특히 EUV 마이크로리소그래피 도구 내의 광학 소자와 함께 사용되어 그 광학계의 안정적인 성능을 도출할 수 있다. |
