| 主权项 |
1.一种使一反应器之冷却剂系统(RCS)真空排气的方法,该RCS包括一反应器之压力槽及至少一含配管之蒸汽产生器,其中配管部份含一延伸于配管之间的热脚(Hotleg),该法之特征乃在于当该RCS孙维持于一未经排放的状况下时,该RCS被排放至约该热脚之中点部份,且于该冷却剂清除无法冷凝之气体及该反应器冷却剂循环经过一除热系统的期间,任何泻出之反应器的冷却剂均被凝聚于该蒸汽产生器之主要端;及最后该RCS被施以真空俾清净该RCS且从其中除去任何气体。2.如请求专利部份第1项中所请之一种真空的方法,其特征乃在于一部份真空乃于藉着一双相泵浦以遂行排放操作的过程中被建立在该未经排放的RCS中,该部份真空需足以使该反应器之冷却剂于该RCS中之常温下沸腾,俾于该排放步骤中造成排气作用。3.如请求专利部份第l项所请之一种排气方法,其特征乃在于该泻出之冷却剂被流经该蒸汽产生器之次级端之次级冷却剂所凝聚。4.如请求专利部份第1,2或3项所请之一种排气的方法,其特征在该真空系于冷却剂排放及除热操作开始之后所产生者。5.如请求专利部份第1至4项中任一项所请求之一种排气方法,其特征在于除热系统中之对循环之反应器冷却剂之取样步骤被抽样检视,且清净操作一宜维持,直到于该取样之过程中一预定之低空气浓度被测得为止。6.如请求专利部份第1至5项中任一项所请之一种排气方法,其特征在当该反应器之冷却剂被循环于一混床式脱离子机中俾除去气体的期间,该反应器之冷却剂系于该脱离子机中抽取者。 |
