| 发明名称 |
用于光化学辅助治疗的膏剂及其制备方法和用途 |
| 摘要 |
本发明涉及一种医用膏剂，具体的说涉及一种用于光化学辅助治疗的膏剂及其制备方法和用途，所述膏剂由下列重量份的组分加工而成：卡波姆5‑8份，甘油4‑8份，对羟基苯甲酸乙酯12‑16份，5‑氨基酮戊酸甲酯1‑10份，药用香精1‑3份，膏剂基质20‑40份。本发明的有益效果是：用于光化学辅助治疗，治疗效果好，痤疮和尖锐湿疣患者用该膏剂辅助治疗后，复发率极低。本发明的膏剂的制备方法，该制备方法加工效率高、产品质量稳定，可控性好，成本低。 |
| 申请公布号 |
CN105963698A |
申请公布日期 |
2016.09.28 |
| 申请号 |
CN201610388091.X |
申请日期 |
2016.05.29 |
| 申请人 |
金新 |
发明人 |
金新 |
| 分类号 |
A61K41/00(2006.01)I;A61K9/06(2006.01)I;A61K47/18(2006.01)I;A61K47/10(2006.01)I;A61K47/38(2006.01)I;A61P17/10(2006.01)I;A61P17/12(2006.01)I;A61P31/20(2006.01)I;A61P17/16(2006.01)I;A61P17/02(2006.01)I |
主分类号 |
A61K41/00(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
用于光化学辅助治疗的膏剂，其特征在于：所述膏剂由下列重量份的组分加工而成：卡波姆5‑8份，甘油4‑8份，对羟基苯甲酸乙酯12‑16份，5‑氨基酮戊酸甲酯1‑10份，药用香精1‑3份，膏剂基质20‑40份。 |
| 地址 |
310051 浙江省杭州市滨江区海威国际公寓3幢3单元1002室 |
