直接描画リソグラフィを使用する集積回路製造

摘要

集積回路が、直接描画リソグラフィ・ステップを使用して製造され、集積回路内に少なくとも１つの層が少なくとも部分的に形成される。少なくとも部分的に形成された集積回路の性能特性が測定され、次に、直接描画リソグラフィ・ステップで適用されるレイアウト設計がこれらの性能特性に応じて変更される。したがって、個々の集積回路、集積回路のウエハ、又はウエハのバッチの性能が変えられ得る。