发明名称 对核反应器之冷稑系统内之沉积物施以臭氧氧化之方法以及该臭氧氧化组成物
摘要
申请公布号 TW097005 申请公布日期 1988.03.16
申请号 TW073102588 申请日期 1984.06.26
申请人 西屋电气公司 发明人 克里夫顿.季.史雷特;亚历山大.彼.墨瑞;劳伦斯.福.小贝克尔;迈可.希.斯克瑞巴
分类号 G21F9/00 主分类号 G21F9/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.利用一臭氧之水溶液来氧化一核反应器之冷却系统中之沉积物里的铬金属的一种方法,该法包括于上述臭氧溶液中加入(a)0.01至0.5%之至少一种可溶于水之铈(Ⅳ)化合物;或者加入(b)0.01至0.5%之至少一种水溶性芳族化合物,该芳族化合物之芳族环上需至少含有一酮基;或者加入(c)或份(a)及(b)之混合物。2.依据请求专利部份第1.项之一种方法,其中所谓之铈(Ⅳ)化合物为硝酸铵铈。3.依据请求专利部份第1.或2.项的一种方法,其中所谓之芳族化合物为 。4.依据请求专利部份第1.,2.或3.项的一种方法,其中所谓之溶液中包含了核反应器之冷却剂的水溶液。5.依据请求专利部份第1.至4.项中任一项之方法,其中所谓之含(a)、(b)或(c)成份的溶液乃被制得且通过冷却系统。6.依据请求专利部份第1.至5.项中任一项之方法,其中所谓之冷却系统系位于一加压水反应器的蒸汽产生器之中。7.依据请求专利部份第1.至6.项中任一项之方法,其特征为,臭氧之水溶液之温度在40-100℃之范围间。8.依据请求专利部份第1.至7.项中任一项之方法,其特征为水溶液中臭氧的浓度为由210^-4%份重至饱和之间。9.一种包含了水、溶解之臭氧以及下述成份之一的组成物(a)0.01至0.5%之一种可溶于水之铈(TV)化合物;(b)0.01至0.5%之至少一种可溶于水之芳族化合物,该化合物之芳族环上需至少含一酮基;(c)成份(a)及(b)之混合物。10.依据请求专利部份第9.项的一种组成物,其中所谓之铈(Ⅳ)化合物为硝酸铵铈。11.依据请求专利部份第10.项之组成物,其中所谓之芳族化合物为 。
地址 美国