| 主权项 |
1.用以制造下式之一种化合物之方法其中R系一个基团,选自甲基、乙基、1一甲基乙基、甲氧基甲基、2-甲氧基乙基、2一丙炔基及1一甲基一2一丙炔基,本方法之特征为(a)将下式之化合物与R-X于硷之存在下反应,其中R系如上列之定义而X为一优良之脱离基或另一方式为(b)使下式之化合物其中R系如上列定义,与CHF2-X于一相转移触媒及一硷,选自氢氧化钠及氢氧化钾之存在下反应,其中X为一优良之脱离基。2.根据上述请求专利部份第1.项之方法,其特征为X系一氯、溴、或碘原子。3.根据上述请求专利部份第2.项之方法,其特征为于该方法(a)中,硷系一种硷金属碳酸盐,一种硷金属碳酸氢盐,或一种硷金属氢化物,及于该方法(b)中,该相转移触媒系一种四烷基铵卤而硷系氢氧化钠。4.根据上述请求专利部份第3.项之方法,其特征为于该方法(a)中该硷是碳酸钠或是碳酸钾;及于方法(b)中该相转移触媒系一种四丁基铵卤或一种(三乙基)(苯甲基)一铵卤,其中卤化物系溴化物或氯化物。 |
