| 主权项 |
1﹒式I之双亚磷酸酯配合体:式中诸Ar系 相同或不同之,被取代或末被取代之芳基 ;W系两价基,选自烷撑及─芳撑─(C H2)y─(Q)n─(CH2)y─芳 撑─,其中诸芳撑如前述之Ar所定义; 诸y各为0或1;诸Q各为两价桥基,选 自─CR1R2─,─0─,─S─,─ NR3─,─SiR4R5─及─CO─ ;式中R1及R2各为氢,C1─12烷 基,苯基,甲苯基或甲氧苯基;诸R3, R4及R5各为─H或─CH3;诸n各 为0或1。诸z各为被取代或未被取代之 烷基,芳基,烷芳基,芳烷基或脂环基。 2﹒根据申请专利范围第1项之双亚磷酸酯配 合体,包含:式中Ⅱ及Ⅲ中Q系─CR1 R2,其中R1及R2各为氢,C1─1 2烷基,苯基,甲苯基或氧苯基;Y1, Y2,Z2及Z3各为氢,C1─18烷 基,被取代或未被取代之芳基,烷芳基, 芳烷基;脂环基,氰基,卤,硝基,三氟 甲基,羟基,羰氧基,胺基,腌基;磷醣 ,氡叛基,酪胺基,﹒亚磺醯,磺醯,甲 矽烷基,烷氧基或亚硫醯;W,Z及n如 前述。 3﹒根据申请专利范围第2项之双亚磷酸酯配 合体,其特征为式中Y1及Y2各为分枝 之C3─5烷基,Z2及Z3为氢,烷基 ,羟基或烷氧基;诸E系下式之芳基:式 中X1,X2,X3各为氢,烷基,被取 代或未被取代之芳基,烷芳基,芳烷基, 脂环基,氰基,卤,硝基,三氟甲基,羟 基,胺基,醯基,羰氧基,氧羰基,醯胺 基,磺醯,亚磺醯,甲矽烷基,烷氧基, 磷醯,或亚硫醯;而Q,W及n如前述。 4﹒根据申请专利范围第1项之双亚磷酸酯配 合体,包含:式IV,V及VI中Ar, Q,Z,y及n同前述;Y3,Y4,Z 4及Z5各为氢,C1─18烷基,被取 代或未被代之芳基,烷芳基,芳烷基,脂 环基,氰基,卤,硝基,三氟甲基,羟基 ,羰氧基,胺基,醯基,膦醯,氧羰基, 醯胺基,亚磺醯,磺醯,甲矽烷基,烷氧 基或亚硫醯。 5﹒根据申请专利范围第4项之双亚磷酸酯配 ,合体,包含:式Ⅶ,Ⅷ,Ⅸ,X,XI ,及XⅡ中,Q,Y1,Y2,Y3,Y 4,Z,Z2,Z3Z4及Z5,以及n 如前述。 6﹒申请专利范围第5项之双亚磷酸酯配合体 ,其特征为式中Y1,Y2,Y3,及Y 4为分枝之C3─5烷基;Z2,Z3, Z4及Z5为氢烷基,羟基或烷氧基,诸 Z为下式之芳基:其中X1,X2及X3 各自氢,烷基,被取代或未被取代之芳基 ,烷芳基,若烷基及脂环基,以及氰基, 卤,硝基,三氟甲基,羟基,胺基,醯基 ,羰氧基,氧碳基,醯胺基,磺醯,亚磺 醯,甲矽烷基,烷氧基,膦醯及亚硫醯; Q,W,n如前述。 7﹒根据申请专利范围第6项之双亚磷酸酯配 合体,包含式中Y1,Y2,Y3,及Y 4各为第三丁基,其中Z2,Z3,Z4 及Z5系甲氧基及n系零之配合体XI。 8﹒一种醛化制程,其包含Ⅷ族过渡金属─双 亚磷酸酯错合触媒之存在下,使烯烃不鲍 和有机化合物和一氧化碳及氢进行,其中 触媒乃Ⅷ族过渡金属和一氧化碳及式I之 双亚磷酸酯配合体错合而成:式中诸Ar 系相同或不同之,被取代或未被取代之芳 基;W系两价基,选自烷撑,芳撑及─芳 撑─(CH2)y─(Q)n─(CH2 )y─芳撑,其中诸芳撑如前述之Ar所 定义;诸y各为0或1;诸Q各为两价桥 基选自─CR1R2─,─0─,─S─ ,─NR3─,─SiR4R5─,及─ CO─;式中R1及R2各为氢,C1─ 12烷基,苯基,甲苯基或甲氧,苯基; 诸R3,R4及R5各为─H或─CH3 ;诸n各为0或1;诸z各为被取代或未 被取代之烷基,芳基,烷芳基,芳烷基或 脂环基。 9﹒根据申请专利范围第8项之醛化制程,系 在式I自由双亚磷酸酯配合体存在下进行 式中诸Ar系相同或不同之,被取代或未 被取代之芳基;W系两价基,选自烷撑, 芳撑及─芳撑─(CH2)y─(Q)n ─(CH2)y─芳撑─,其中诸芳撑如 前述之Ar所定义诸y各为0或1;诸Q 各为两价桥基,选自─CR1R2各为氢 ,C1─12烷基,苯基,甲苯基或甲氧 苯基;诸R3,R4及R5各为─H或─ CH3;诸n各为0或1;诸Z各为被取 代或未被取代之烷基,芳基,烷芳基,芳 烷基或脂环基。 10﹒根据申请专利范围第9项之醛化制程,其 中烯烃不饱和化合物送自C2─20─ 烯烃,C4─20之内烯烃及此种─烯 烃及内烯烃之混合物。 11﹒根据申请专利范围第10项之醛化制程, 其中反应温度为约50至120℃,氢, 一氧化碳及烯烃不饱和有机化合物之全部 气体压力为约1至1500Psia,氢 之分压为约15至约160Psia,一 氧化碳之分压为约1至约120Psia ,反应介质中每莫耳的铑对应约4至约1 00莫耳双亚磷酸酯配合体。 12﹒根据申请专利范围第11项之醛化制程, 其中错合及自由之双亚磷酸酯配合体可为 相同或不同,选自式Ⅱ及Ⅲ中,Q系─C R1R2,其中R1及R2各为氢,C1 ─12烷基,苯基,甲苯基或甲氧苯基; Y1,Y2,Z2及Z3各为氢,C1─ 18烷基,被取代或未被取代之芳基,烷 芳基,若烷基,脂环基,氰基,卤,硝基 ,三氟甲基,羟基,羰氧基,胺基,醯基 ,磷醯,氧羰基,醯胺基,亚磺醯,磺醯 ,甲矽烷基,烷氧基或亚硫醯;W,Z及 n如前述。 13﹒根据申请专利范围第12项之醛化制程, 其中Y1及Y2各为C3─5分枝之烷基 ;Z2及Z3各为氢,烷基,羟基或烷氧 基,诸Z系下式之芳基:式中X1,X2 ,X3各为氢,烷基,被取代或未被取代 之芳基,烷芳基,芳烷基,脂环基,氰基 ,卤,硝基,三氟甲基,羟基,胺基,醯 基,羰氧基,氧羰基,醯胺基,磺醯,亚 磺醯,甲矽烷基,烷氧基,膦醯,或亚硫 醯;而Q,W及n如前述。 14﹒根据申请专利范围第9项之醛化制程,其 中配合体选自:式IV,V及VI中,A r,Q,Z,y及n同前述;Y3,Y4 ,Z4及Z5各为氢,C1─18烷基, 被取代或未被取代之芳基,烷芳基,芳烷 基,脂环基,氰基,卤,硝基,三氯甲基 ,羟基,羰氧基,胺基,醯基,膦醯,氧 羰基,醯胺基,亚磺醯,磺醯,甲矽烷基 ,烷氧基或亚硫醯; 15﹒根据申请专利范围第12项之醛化制程, 其中配合体选自:式Ⅶ,Ⅷ,Ⅸ,Ⅹ,Ⅹ I及ⅩⅡ中,Q,Y1,Y2,Y3,Y 4,Z1,Z2,Z3,Z4,Z5,及 n如前述。 16﹒根据申请专利范围第15项之醛化制程, 其中Y1,Y2,Y3及Y4各为分枝之 C3─5烷基;Z2,Z3,Z4,及Z 5各为氢,光基,羟基或烷氯基;诸Z系 下式之芳基其中X1,X2及X3各选自 氢,烷基,被取代或未被取代之芳基,烷 芳基,芳烷基及脂环基,以及氰基,卤, 硝基,三氟甲基,羟基,胺基,醯基,羧 氧基,氧羰基,醯胺基,磺醯,亚磺醯, 甲矽烷基,烷氧基,膦醯及亚硫醯;Q, W,及N如前述。 17﹒根据申请专利范围第16项之醛化制程, 其中配合体为式中Y1,Y2,Y3及Y 4各为第三丁基,其中Z2,Z3,Z4 及Z5各系甲氧基,及n系零之化合物X I。 18﹒根据申请专利范围第15项之醛化制程, 其中烯烃开始物质为丁烯─1,丁烯─2 ,或实质为丁烯─1及丁烯─2之混合物 。 19﹒根据申请专利范围第18项之醛化制程, 其中醛化包含连续循环使用含触媒之液态 介质。 20﹒铑错合醛化触媒,系铑和通式I之双亚磷 酸错合而得:式中诸Ar系相同或不同之 ,被取代或未被取代之芳基;W系两价基 ,选自烷撑,芳撑及─芳,撑─(CH2 )y─(Q)n─(CH2)y─芳撑, 其中诸芳撑如前述之Ar所定义;诸y各 为0或1;诸Q各为两价桥基,选自─C R1R2─,─0─,─S─,─NR3 ─,─SiR4R5─及─CO─;式中 R1及R2各为氢,C1─12烷基,苯 基,甲苯基或甲氧苯基;诸n各为0或1 ;诸Z各为被取代或未被取代之烷基,芳 基,烷芳基,芳烷基或脂环基。 21﹒Ⅷ族过渡金属错合醛化催化先驱组成物, 主要包含溶解化之圳族过渡金屏一双亚磷 酸酯错合物,有机溶剂及自由双亚磷酸酯 配合体,其中在反应介质中每莫耳的Ⅷ族 过渡金属对应约3至约50莫耳的双亚磷 酸酯配合体,该双亚磷酸酯配合体的使用 量为双亚磷酸酯和存在的Ⅷ族过渡金属错 合的量与存在的自由(非错合的)双亚磷 酸酯量之总和;溶剂之用量可为约5%重 量至约95%重量,百分率系对反应介质 之全部重量而言;及错告及自由之双亚磷 酸酯配合体之通式如下:式中诸Ar系相 同或不同之,被取代或未被取代之芳基; W系两价基,选自烷撑,芳撑及一撑芳─ (CH2)y─(Q)n─(CH2)y ─芳撑,其中诸芳撑如前述之Ar所定义 ;诸y各为0或1;诸Q各为两价桥基, 选自─CR1R2─,─0─,─S─, ─NR3─,─SiR4R5─,及─C O─;式中R1及R2各为氢,C1─1 2烷基,苯基,甲苯基或甲氧苯基;诸n 各为0或1:诸Z各为被取代或未被取代 之烷基,芳基,烷芳基,若烷基或脂环基 。 22﹒根据申请专利范围第21项之组成物,其 中Ⅷ族过渡金属为姥。 23﹒根据申请专利范围第22项之组成物,其 中铑─双亚磷酸酯错合物为双亚磷酸酯配 合体和二羰基乙醯丙酮铑之错合反应产物 。 |
