| 主权项 |
1﹒一种制备下列结构式之盐之方法:其中, 为一可与金属放射核种相螫合之螫合剂残 基,该整合剂至少含有一个第一、第二或 第三氨基官能团,该官能团对螫合剂之复 合性质乃非要素,该残基之特征在于其乃 至少不含该第一、第二或第三氨基官能团 中之一,Y为1或2;为一下式基其中, n为0,1或2;p为0,1或2,若P 为1或2时,化学式(b)中各个R则可 设置在二稠环中一稠环上;q为0,1或 2,若q为1或2时,化学式(c)中各 个R则可设置在二稠环中一稠环上;及各 个R系任意选自含有卤,C1─C7烷基 ,C1─C7烷氧基,C2─C8烷氧基 羰基,C2─C8链烷醯氧基,C1─C 7卤烷基,C1─C7烷基硫,C1─C 7烷基亚磺醯,C1─C7烷基磺硫,─ CH=NOR'(其中R"为H或C1─C 7烷基)与一CONR'R"(其中可属同 类或非同类之R'与R"各为H或C1─C 7烷基)的原子团中者,X为药学上可接 受之有机或无机酸之阴离子;t为酸阴离 子价;及s为一个当其乘以t时等于y之 数字;该方法系包括下列步骤:(a)使 一项下式第一胺(其中,乃如前述所界定 者)与下式zincke试剂起反应其中 ,乃如前述所界定者;或(b)使不式化 合物(其中,Hal为氯基或溴基且乃如 前述所界定者)与下式化合物起反应其中 ,各个R3系任意送自包括H及C1─C 7烷基的原子团,alk为一直链或支链 低级次烃基,该次烃基链中另外可含有1 、2或3非相邻氧原子且─N+乃为请求 专利部份第1项所界定者;X及t系如请 求专利部份第1项所界定者,及s'为一 当乘以t时等于1之数字者。 3﹒一种如请求专利部份第2顶之方法,其中 所界定之盐乃具有下列结构式:其中r、 n、p、与q皆如前述所界定者;「、( c)当需要时,若于残基中含有保护基时 继续将该保护基自生成之化学式(1)盐 中除去;(d)当需要时,继以因而生成 之化学式(1)盐中阴离子C1─或Br ─来交换另一个X─阴离子,X─系如前 述所界定者。 2﹒一种如请求专利部份第1项之方法,其中 所界定之盐乃具有下列结构式:3﹒一种 如请求专利部份第2项之方法,其中所界 定之盐乃具有下列结构式:如请求专利部 份第2项所界定者。 4﹒一种如请求专利部第1项之方法,其中所 界定之盐乃具有下列结构式:其中,各个 R1系任意选自包括H及C1─C7烷基 的原子团,或是一个R1可与相邻之C─ R1相结合,如此表示C=O;各个R2 系任意选自含有H及C1─C7烷基之原 子团,或是一项R2可与相邻之C─R2 相结合,如此,表示C=O;其中,X─ 反t系如请求专利部份第1项所界定者, s为一当乘以t时等于1之数字,n'为 0至3之整数,HNNH为一下式基且R 1与R2乃各自为H或C1─C3烷基者 5﹒一种如请求专利部份第4项之方法, 其中所界定之盐乃具有下列结构式:其中 ,─N+,X─t系如请求部份第4项所 界定者。 6﹒一种制备下列结构之化合物之方法:或其 药学上可接受之无毒盐,其中为一可与金 属放射核种相螯合之螯合剂残基,该螯合 剂至少含有一个第一、第二成第三氛基官 能团,该官能团对螯合剂之复合性质乃非 要素,该残基之特征在于其乃至少不含有 一个该第一、第二或第三氨基官能团;y 为1或2;及─N为一项下式基其中,化 学式(i)中虚线表示在二氢啶环4或 5位次上有一双键;化学式(ii)中虚 线表示在二氢环状系统2或是3位次 上有一双键;m为0或1;n为0,1或 2;p为0,1或2,若p为1或2时, 化与式(ii)中各个R则可设置在二稠 环中一稠环上;q为0,1或2,若q为 1或2时,化学式(iii)中各个R则 可设置在二稠环中一稠环上:及各个R系 任意选自含有卤素,C1─C7烷基,C 1─C7烷氧基,C2─C8烷氧基羰基 ,C2─C8链烷醯氧基,C1─C7卤 烷基,C1─C7烷基硫,C1─C7烷 基亚磺硫,C1─C7烷基磺硫,─CH =NOR""(其中R'''为H或C1─C 7烷基)及─CONR'R"(其中可属同 类或非同类之R"与R"各为H或C1─C 7烷基)之原子团中者;该方法包括将如 请求专利部份第1项所界定之化学式(I )盐予以还原而成,还原作用在适当之溶 剂内,以适当之还原剂在约一10℃至室 温之温度范围及大气压下进行者。 7﹒一种如请求专利部份第6项之方法,其中 所界定之化合物乃具有下列结构式者:其 中,各个R1系任意选自包括H及C1─ C7烷基的原子团,或是一个R1可与相 邻之C─R1相结合,如此表示C=0; 各个R2系任意选自含有H及C1─C7 烷基之原子团,或是一个R2可与相邻之 C─R2相结合,如此,C表示C=O─ NHNH为一下式基:其中,各个R3系 任意选自包括H及C1─C7烷基的原子 团,alk为一直链或支链低级次烃基, 该次烃基链中另外可含有1.2或3非相 邻氧原子且N─及如请求专利部份第6项 所界定者。 58﹒一种为请求专利部份第7项之方法,其中 所界定之化合物乃具有下列结构式者:其 中,DH一系如请求专利部份第7项所界 定者。 9﹒一种如请求专利部份第6项之方法,其中 所界定之化合物乃具有下列结构式者:其 中,─N系如请求专利部份第6项所界定 者,n'为0至3的整数,且R1与R2 乃各自为H或C1─C3烷基者。 10﹒一种如请求专利部份第9项之方法,其中 所界定之化合物乃具有下列结构式者:项 所界定者。 11﹒一种制备含下列结构式之放射与物之方法 :或其药学上可接受之无毒盐,其中为一 可与金属放射核种相螯合之螯合剂残基, 该螯合剂至少含有一个第一、第二或第三 氨基官能团,该官能团对螯合剂之复合性 质乃非要素,该残基之特征在于其乃至少 不含有一个该第一、第二或第三氨基官能 团;y为1或2;─N为一项下式基其中 ,化学式(i)中虚线表示在二氢啶环 4或是5位次上有一双键;化学式(ii )中虚线表示在二氢环状系统2或是 3位次上有一双键;m为O或1;n为0 ,1或2;p为0,1或2,倘若p为1 或2时,化学式(ii)中各个R则可设 置在二稠环中一稠环上; 4为0,1或2,倘若q为1或2时,化 学式(iii)中各个R则可设置在二稠 环中一稠环上;各个R系由含有卤,C1 ─C7烷基,C1─C7烷氧基,C2─ C8烷氧基羰基,C2─C8链烷醯氧基 ,C1─C7卤烷基,C1─C7烷基硫 ,C1─C7烷基亚磺醯,C1─C7烷 基磺硫,─CH=NOR'''(其中R"' 为H或C1─C7烷基)及─CONR' R"(其中可属同类或非同类之R'与R" 各为H或C1─C7烷基)之原子团中自 由选择;及M为一项金属放射核种;该化 学式(iii)放射药物乃该金属放射核 种与下列结构式化合物其中,各个R3系 任意选自包括H及C1─C7烷基的原子 团,alk为一直链或支链低级次烃基, 该次烃基链中另外可含有1.2或3非相 邻氧原子且─N乃如请求专利部份第11 项所界定者。 13﹒一种如请求专利部份第12项之方法,其 中该化学式(Ⅱa)化合物具有下列结构 式:(其中及y系如上文中所界定者)螯 合之螯合物;该方法包括令金属放射核种 与一顶如请求专利部份第6项所界定之化 学式(ii)化合物相结合。 12﹒一种如请求专利部份第11项之方法,其 中所界定之该放射药物系金属放射核种与 下列结构式化合物之螯合物:第12项所 界定者。其中,─系如请求专利部份。 14﹒一种如请求专利部份第11项之方法,其 中该放射药物系金属放射核种与下列结构 式化合物之螯合物:其中,各个R1系任 意选自包括H及C1─C7烷基的原子团 ,或是一个R1系可与相邻C─R1相结 合,如此表示C=O;各个R2系任意选 R1自包括H及C1─C7烷基的原子团 ,或一个R2系可与相邻之C─R2相结 合,如此表示C=0;及HNNH为一下 式基:其中;乃如请求专利部份第11项 所界定者,n'为0至3的整数,且R1 与R2乃各自为H或C1─C3烷基者。 15﹒一种如请求专利部份第14项之方法,其 中该化学式(11b)之化合物具有下列 结构式:其中,─N系为请求专利部份第 14项所界定者。 16﹒一种如请求专利部份第12.13.14 或15项之方法,其中,该金属放射核种 为0─xotechnate─99m离 子者。 17﹒一种制备含下列结构式之放射药物之方法 :其中为一项可与金属放射核种相螯合之 螯合剂残基,该螯合剂至少含有一个第一 、第二或第三氨基官能团,该官能团对螯 合剂之复合性质乃非要素,该残基之特征 在于其乃至少不含有一个该第一、第二或 第三氨基官能团;y为1或2;─N+为 一下式基其中,n为0,1或2;p为0 ,1或2,若p为1或2时,化学式(b )中各个R则可设置在二稠环中一稠环上 ;q为0,1或2,若q为1或2时,化 学式(c)中各个R则任意设置在二稠环 中一稠环上;各个R系任意送自含有卤素 ,C1─C7烷基,C1─C7烷氧基, C2─C8烷氧基羰基,C2─C8链烷 醯氧基,C1─C7卤烷基,C1─C7 烷基硫,C1C7烷基亚磺醯,C1─C 7烷基磺硫,─CH=NOR'"其中R" "为H或C1─C7烷基)与─CONR 'R"(其中可属同类或非同类之R'兴R "各为H或C1─C7烷基)之原子团中 者;X为一项药学上可接受之有机或无机 酸之阴离子;t为酸阴离子价;S为一个 当乘以t时等于y之数字;及M为一金属 放射核种,该化学式(─iv)放射药物 乃该金属放射核种与下列结构式盐(其中 ,,y,─N+,X─,t及s系为上文 中所界定者)螯合之螯合物;该方法包括 :(a)令金属放射核种与为请求专利部 份第1项所界定之化学式(1)盐相络合 ;或(b)使如请求专利部份第11项所 界定之化学式(iii)放射架物氧化。 18﹒一种如请求专利部份第1.6.11或1 7项之方法,其中所界定之化合物,式中 y为1者。 19﹒一种如请求专利部份第18项之方法,其 中所界定之化合物,式中n、p、q或m 为1者。 20﹒一种如请求专利部份第19项之方法,其 中所界定之化合物,式中R系设置在啶 化合物或二氢啶环3位次上者,─ 化合物或二氢环状系统3位次上者, 或是异化合物4位次上或二氢异 环状系统中一系统上者。 21﹒一种如请求专利部份第19项之方法,其 中所界定之化合物,式中R为一CH=N OR'''其中R'''为H或C1─C7烷基 者。 2﹒一种如请求专利部份第19项之方法,其 中所界定之化合物,式中R为─CONR R'''其中可属同类或非同类之R'与R' '系各自为H或C1─C7烷基者。 23﹒一种如请求专利部份第20项之方法,其 中所界定之化合物,式中R为─CH=N OR'''其中R'''为H或C1─C7烷基 者。 24﹒一种如请求专利部份第20项之方法,其 中所界定之化合物,式中R为─CONR 'R''其中可属同类或非同类之R'与R' '系各自为H或C1─C7烷基者。 25﹒一种如请求专利部份第11或17项之方 法,其中所界定之放射药物,式中M为鎝 ─99m者。 26﹒一种如请求专利部份第17项之方法,其 中所界定之该放射药物条金属放射核种与 下列结构式盐之螯合物:其中,各个R1 系任意选自包括H及C1─C7烷基的原 子团,或一个R1系可与相邻C─R1相 结合,如此表示,C=0;各个R2系任 意选自包括H及C1─C7烷基的原子团 ,或一个R2可与相邻C─R2相结合, 如此其中,各个R3系任意选自包括H及 C1─C7烷基的原子团,alk为一直 链或支键低级次烃基,该次烃基链中另外 可含有1.2或3非相邻氧原子,且─N +系如请求专利部份第17项所界定者; X─及t系如请求专利部份第17顶所界 定者;且s'为一当乘以t时等于1之数 字。 27﹒一种如请求专利部份第26项之方法,其 中该化学式(Ia)盐具有下列结构式: 其中,HNNHX─及t皆如请求专利部 份第26项所界定者。 28﹒一种如请求专利部份第17项之方法,其 中该放射药物系金属放射核种与下列结构 式盐之螯合物:其中,─N+,X及t皆 如请求专利部份第17项所界定音,s' 为一当乘以t时等于1之数字,n'为0 至3的整数且R1与R2各自为H或C1 ─C3烷基。 29﹒一种如请求专利部份第28项之方法,其 中该化学式(1b)盐含下列结构式:其 中,S',X─及t皆如请求专利部份第 28项所界定者。 30﹒一种如请求专利部份第26.27.28 或29项之方法,其中,该金属放射核种 为0─xotechnate─99m离 子者。 31﹒一种制备如请求专利部份第11项所界定 之化学式(iii)放射药物之方法,该 方法包括将如请求专利部份第17项所界 定之化学式(iv)放射药物予以还原而 成。 |
