发明名称 静态随机存取记忆体之改良
摘要
申请公布号 TW105421 申请公布日期 1988.11.11
申请号 TW077204630 申请日期 1988.05.17
申请人 台湾茂矽电子股份有限公司;蔡南雄 新竹巿园区一路四十九号五楼 发明人 蔡南雄
分类号 H01L27/11 主分类号 H01L27/11
代理机构 代理人 吴宏山 台北巿中山区南京东路三段一○三号十楼;林志诚 台北巿南京东路三段一○三号十楼
主权项 一种静态随机存取记忆体之改良,包括一具有绝缘层之单矽晶,上部设以矽晶膜,于矽晶膜之上层为一保护薄膜层,电阻体则设于中央处,为薄膜层覆盖,而两侧露出部则为导电接触面,其特征在于利用金属或其合金,连设于电阻体之接触面,使接触体连接至负载电阻,完全导电相连,其电阻长度可缩至最中,进而提高容量者。图示简单说明图一为本创作之上视图。图二为本创作之剖视图。图三习用结构之上视图。图四习用结构之剖视图。
地址 新竹科学工业园区新竹巿研新一路一号