| 主权项 |
1.一种盘架高度调整机构的改进,其特征在于:具有多数道凹槽之盘架支柱上所套设之盘架支持环系为两片式,其环体内壁上具有一道与盘架支柱上之凹槽相咬合的环形凸条,其环体表面,乃于底部形成一向外突出之环座,藉此,盘架本体乃可套于盘架支持环上,而利用环体底部之环座予以支撑,而要调整盘架高度时,只要使盘架脱离盘架支持环,则盘架支持环乃可分开,然后移动至另一道凹槽的位置而将该凹槽咬住,再使盘架套于盘架支付环上,盘架即得固定于另一道凹槽的位置,达成调整盘架之高度为其目的者。2.如申请专利范围第1项之盘架高度调整机构的改进,其盘架支持环系为两半形管体所构成者。3.如申请专利范围第1项与第2项之盘架高度调整机构的改进,其盘架支持环内壁上之凸条为一段或多数段者。图示简单说明:第一图为习见可调式盘架之整体图。第二图菊习见可调式盘架之支持调整机构的纵截面图。第三图为本创作之可调式盘架之支持调整机构的构成分解图。第四图为本创作之可调式盘架之支持调整机构的纵截面图。 |
