| 发明名称 |
RADIATION-SENSITIVE MIXTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH03102356(A) |
申请公布日期 |
1991.04.26 |
| 申请号 |
JP19900217292 |
申请日期 |
1990.08.20 |
| 申请人 |
BASF AG |
发明人 |
FURIIDORITSUHI ZAITSU;EERITSUHI BETSUKU;YOOAHIMU ROOZAA;EREONOORE BIYUSHIYUGESU;GIYUNTAA SHIYURUTSU;TOOMASU TSUBUETSUTSU |
| 分类号 |
C08G18/28;C08G18/32;C08K5/09;C08L33/02;C08L35/00;C08L75/02;G03F7/027;G03F7/038;G03F7/039 |
主分类号 |
C08G18/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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