| 主权项 |
1﹒一种包含自持型聚合物膜基质之剥离膜,在其中之至少一表面上具有一聚合性脱离剂层,其特征为脱残剂层包含一聚胺基甲酸酯树脂,其系下列物质之反应产物:(A)一预聚合物,由下列物质反应获得:(i)一有机聚异氰酸酯,(ii)一具有至少两个异氰酸酯反应基之聚二烷基矽氧烷,及(iii)一包含亲水性中心及至少两个异氰酸酯和/或异氰酸酯反应性基之化合物,和(B)一选自于二胺,联胺或经取代之联胺的多官能性链增长剂,其中异氰酸酯基团与异氰酸酯反应性基团之数目比在从1﹒1:1至6:1之范围内2﹒根据申请专利范围第1项之剥离膜,其中该聚合物膜为热塑性膜。3﹒根据申请专利范围第1项或2项之剥离膜,其中该预聚合物得自另外之反应物:(iv)至少一具有分子量范围在62至6000且无矽原子及亲水性中心之有机多醇。4﹒根据申请专利范围第1或2项之剥离膜,其中组成份(ii)包含聚二甲基矽氧烷二醇或三醇。5﹒根据申请专利范围第1或2项之剥离膜,其中组成份(iii)包含2,2一二甲醇基丙酸。6﹒根据申请专利范围第1或2项之剥离膜,其中多官能基链增长剂包含树脂性分子间交联剂。7﹒根据申请专利范围第6项之剥离膜,其中链增长剂包含甲氧基甲基三聚氰胺。8﹒根据申请专利范围第2项之剥离膜,其中该基质包含一双轴定向之聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。9﹒一种剥离膜之制法,包含施用一脱离剂介质于自持型聚合物膜基质之至少一表面上,脱离剂介质在任何拉伸操作实施之前、期间或之后使用,以加强该膜基质之分子排列,并乾燥该施用之介质以形成聚合物脱离剂层,该方法之特征为该脱离剂介质包含一聚胺基甲酸酯树脂之分散液,其系下列物质之反应产物:(A)一预聚合物,由下列物质反应获得:(i)一有机聚异氰酸酯,(ii)一具有至少两个异氰酸酯反应基之聚二烷基矽氧烷,及(iii)一包含一亲水性中心及至少两个异氰酸酯和/或异氰酸酯反应性基之化合物,和(B)一选自于二胺,联胺或经取代之联胺的多官能性链增长剂,其中异氰酸酯基团与异氰酸酯反应性基团之数目比在从1﹒1:1至6:1之范围内。10﹒根据申请专利范围第9项之方法,其中该脱离剂介质被当作水性分散液施用。11﹒一种屋顶用柏油板或木瓦,其在第一表面上具有黏着剂单元,而第二表面上具有剥离胶带,该剥离胶带被定位以确保当该板或木瓦被叠积时,与在相邻之板或木瓦上之黏着剂相接,其特征为该剥离胶带包含一聚胺基甲酸酯树脂,其为下列物质之反应产物:(A)一预聚物,由下列反应获得:(i)一有机聚异氰酸酯,(ii)一具有至少两个异氰酸反应基之聚二烷基矽氧烷,及(iii)一包含一亲水性中心及至少两个异氰酸酯和/或异氰酸酯反应性基之化合物,和(a)一选自于二胺,联胺或经取代之联胺的多官能性链增长剂,其中异氰酸酯基团与异氰酸酯反应性基团之数目比在从1﹒1:1至6:1之范围内。图示简单说明图1系剥离膜10之部份正视图,图2系相似之片断正视图,图3系一柏油屋顶木瓦16之正视图,图4代表此类木瓦之叠层,只有两片木瓦16,16'被示出,以及图5代表两片木瓦16,16'排列于有效位置 |
