| 发明名称 |
METHOD MANUFACTURING FOR METALLIC LAYER OF SEMICONDUCTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR910006971(B1) |
申请公布日期 |
1991.09.14 |
| 申请号 |
KR19880008568 |
申请日期 |
1988.07.08 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP. |
发明人 |
ITTO HITOSHI;MORIYA TAKAHIKO |
| 分类号 |
H01L21/3205;C23C16/08;C23C16/30;C23C16/44;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/88 |
主分类号 |
H01L21/3205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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