| 主权项 |
1.一种容器液位高低控制构造之改良,主要包含一可容置预定液体量之储容体,其中且置设一可感测控制液位变化之感控装置;其特征在于:该感控装置系一置设于该储容体最高与最低液位间适当范围之感测体,及一设于该储容体外壁之控制器配组而成,而该感测体乃为一具绝缘、导热且耐高温之护壳包覆一由二金属导片嵌夹具二极端面之PTC(具有正温度电阻系数之钛酸锁系的半导体陶瓷)所组成,并由二金属导片分别延伸一导线与控制器接连,该控制器系为一可测得电流大小变化之电流侦测电路,藉由该感测体之PTC因液位高低所产之电流变化,而达成控制液位高低或改变控制形态之功效者。2.依据申请专利范围第1项所述容器液位高低控制构造之改良,其中该感测体系自该储容体底部向上延伸设置,且容置于该储容体底部呈内凹状之收容空间内,并舆该收容空间周缘壁面紧密接触,以达较佳之侦测效果者。3.依据申请专利范围第1或2项所述容器液位高低控制构造之改良,其中距离该感测体适当位置之储容体内设有一周滤网,以隔离杂质而获较佳之感测功效者。图示简单说明.第一图系习用构造之组合剖视图。第二图系本创作一较佳实施例之组合剖视图。第三图系本创作一较佳实施例之感测体立体剖视图。第四图系本创作一较佳实施例之控制器电路图。第五图系本创作一较佳实施例之PTC之R—T曲线图。 |
