| 主权项 |
1.一种光可聚合组合,其包括一基质,在该基质表面上至少有二层涂层,其中该二涂属之较低涂层包括含一至五个乙烯系不饱和双键之自由基可聚合化合物,而该二涂层之面层包括障壁聚合粘合剂以及供自由基聚合反应用之第一光启发剂。2﹒根据申请专利范围第1项之组合,其中该面层进一步包括供该光启发剂用之敏化剂。3﹒根据申请专利范围第1项之组合,其中该较低层进一步包括供自由基聚合反应所用选自有机过氧化物、偶氮化合物、芳香族重氮盐、芳香盐錪盐、芳香族铳盐、芳香族鏻盐、二苯基酮、亚硝酸化合物、乙醯氯、芳基卤化物、 、氢硫基化合物、英化合物、三芳基咪唑、二咪唑以及卤烷基-三 之第二光启发剂。4﹒根据申请专利范围第1.2或3项之组合,其中该较低层进一步包括膜形成聚合粘合剂。5﹒根据申请专利范围第3项之组合,其中该较低层进一步包括一敏化剂。6﹒根据申请专利范围第3项之组合,其中该第二光启发剂以该第一光启发剂之至少乃莫耳%之量存在。7﹒根据申请专利范围第1,2或3项之组合,其中该第一光启发剂选自有机过氧化物、偶氮化合物、芳香族重氮盐、芳香族錪盐、芳香族铳盐、芳香族鏻盐、 、二苯基酮、亚硝酸化合物、乙醯氯、芳基卤化物、 、氢硫基化合物、 英 化合物、三芳基咪唑、二咪唑以及卤烷基三 。8﹒根据申请专利范围第1.2或3项之组合,其中该第一光启发剂系选自具有下列一般结构之芳族錪盐:其中Ar1及Ar2为具有4至20碳原子之芳基且较佳系选自苯基、 基、 吩基、 喃基以及 唑基,W选自单键,=O,=S,=S=O,=C=O,O=(=0,及=N=R13﹐=CR11R12﹐其中R13为6至20个碳原子之芳基、2至20个碳原子之醯基,且其中R11及R12选自氢、1至4个碳原子之烷基,Q为阴磷子。9﹒根据申请专利范围第1.2或3项之组合,其中该第一光启发剂为卤化烷基三 ,选自具有下列一般结构者:其中:X为卤原子 (较佳为氯或溴),Y为-CX3.-NH2.-NHR15.-NR15或-OR15其中R15至4个碳原子之烷基或含6至10个碳原子之芳基,且R16为-CX3.1至12个碳原子之烷基、6至12个碳原子之芳基、2至12个碳原子之烯基,或含8至20个碳原子之芳烯基。10﹒根据申请专利范围第2项之组合,其中该较低层进一步包括具有下列一般结构之对-经取代-N-二经取代-苯胺:其中R1及R2为相同或不同,且各为含1至12个碳原子之烷基,或与氮原子形成具有5至10个核原子之杂环,R3为-COOR4基或-(C=O)-R 5基,R4为H、烷基、羟烷基、羧烷基、芳烷基或芳基,在此烷基具有l至15个碳原子,而芳基为苯基或 基,R5为H、含l至4个碳原子之烷基、苯基或 基,R6、R7.R8.R9各别为H、烷基、羟基、烷氧基、卤素、氰基,或R6及R 7或R8及R9一起各自形成含高至8个环原子之环状结构。 |
