| 发明名称 |
RF PLASMA CVD APPARATUS AND THIN FILM FORMING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04211115(A) |
申请公布日期 |
1992.08.03 |
| 申请号 |
JP19910002908 |
申请日期 |
1991.01.16 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD;FUJI ELECTRIC CO LTD |
发明人 |
TOKI MASAHIKO;KOGUCHI MAKOTO;SUZUKI SHIGERU |
| 分类号 |
C23C16/50;H01L21/205;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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