| 主权项 |
1.一种自含有-第一气态组份,至少一种沸点低于该第一气态组份之惰性气态组份,至少一种凝固点高于该第一气态组份之第一气态杂质及至少一种可与该第一气态组份起化学反应之不冷凝气态杂质-之气体流中回收第一气态组份之方法,此方法包含下列步骤:(a)使该气体流流入含有吸附剂之第一吸附区,吸附剂会优先吸附该至少一种第一气态杂质,以将气体流中之该至少一种第一气态杂质除尽;(b)使自该第一吸附排出之第一气态杂质除尽之气体流进入温度维持于该第一气态组份沸点以下之热交换区,以使气流中之第一气态组份冷凝并产生几乎完全除尽该至少一种第一气态杂质及第一气态组份之气态流出物;(c)将至少一部份之该气态流出物加热至约90℃以上之温度;(d)使该加热气态流出物流入含有吸附剂之第二吸附区,吸附剂会优先吸附该至少一种第一气态杂质并含有该至少一种第一气态杂质为被吸附物,以将该第二吸附区中之该至少一种第一气态杂质清除;(e)在该至少一种第一气态组份在该第一吸附区蓄积达预定程度时,将该第一与第二吸附区之角色互换,俾该至少一种第一气态杂质在该第二吸附区中进行吸附而在该第一吸附区中进行脱附;及(f)周期性地重覆步骤(a)至(e),以自该气体流中继续回收该第一气态杂质组份。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该至少一种第一气态杂质包含水蒸气,二氧化碳或两者之混合物。3.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中该第一气态组份为有机化合物。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中该有机化合物系选自烃、氧取代之烃,氯化烃或彼等之混合物。5.根据申请专利范围第3项之方法,其中该不冷凝气态杂质为氧。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中该惰性气态组份为氮氩或两者之混合物。7.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中该第一气态杂质除尽之气体流,在流入该热交区之前,先被压缩至至少约2psig之压力。8.根据申请专利范围第7项之方法,其中气体流被压缩至约2至约25psig之压力。9.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中一部份自该热交换区排出之气态流出物回流至该气体源。10.根据申请专利范围第9项之方法,其中该气流源为惰性气体覆盖之反应槽或溶剂媒树脂涂料烘乾箱。11.一种自含有至少一种汽化挥发性组份,氮、水蒸气及氧之气流中回收一种或多种汽化挥发性组份之方法,此方法包含下列步骤:(a)自气流源抽出该气流;(b)使该气流流入含有吸附剂之第一吸附区,此吸附剂会优先吸附水蒸气,以将气体流中之水蒸气除尽;(c)使自该第一吸附区排出之水蒸气除尽气体流流入温度维持于该一种或多种挥发性组份之凝固点与沸点之间的热交换区,以使该一种或多种挥发性组份自气体流中冷凝下来,并产生几乎已除尽水蒸气及该至少一种挥发性组份之气态流出物;(d)将至少一部份之该气态流出物加热至约90℃至约260℃范围内之温度;(e)使该加热之气态流出物流入含有吸附剂之第二吸附区,此吸附剂会优先吸附水蒸气且含有吸附之水蒸气,以将该第二吸附区之该吸附水清除;(f)将几乎完全纯的氮引入该气流源中(g)在水蒸气在该第一吸附区蓄积达到预定程度时,将该第一及第二吸附区之角色互换,俾水蒸气在该第二吸附区进行吸附而在该一吸附区进行脱附;及(h)周期性地重覆步骤(a)至(g),以自该气体流中不 |
