| 主权项 |
1.一种扫描一表面之平面光学扫描头,该头具备一放射源;一含有基底之元件,在该基底上有一输入光栅,用以将放射源之放射线耦合带入此元件的波导管中;一安置在基底上之输出光栅环围上述输入光栅,用以耦合波导管中之放射线并将之带出且呈扫描光束形式将之导向表面上;另有一检测系统;此光学扫描头之特征在于具有一环绕输入光栅的检波光栅,用以将记录载体所反射之放射偏转向检测系统。2.根据申请专利范围第1项之平面光学扫描头,其中输入光栅是安置在基底的远离放射源之那一面上,其中该检波光栅是安置在基底的面对放射源之那一侧上。3.根据申请专利范围第1或2项之平面光学扫描头,其中该放射源是固定于在基底上。4.根据申请专利范围第1项之平面光学扫描头,其中该检测系统是固定于基底上。5.根据申请专利范围第1项之平面光学扫描头,其中该基底包含两互接部份,检波光栅置于两基底部件之间而输出光栅置于离放射源最远的基底部件的远离放射源的那一面上。6.根据申请专利范围第1.2.4或5项之平面光学扫描头,其中该检波光栅将象散现象引入一已偏转之光束中,而检测系统包含一四象限检测器以产生一焦点误差信号。7.根据申请专利范围第1.2.4或5项之平面光学扫描头,其中该检波光栅包含两光栅部件用以形成两偏向光束,此两光束在离检波光栅相同距离处聚焦,此两光栅部件之光栅划线的方向、光栅系数、光栅周期皆不相罔,上述每一光束之检测系统包含两检测器用以产生一焦点误差信号。8.根接申请专利范围第1.2.4或5项之平面光学扫描头,其中该检波光栅包含两交织的光栅划线图案,用以产生两分别对焦在离检波光栅不同距离处之偏转光束,此每一光束具备一检测系统用以决定该系统位置处之光束直径。9.根据申请专利范围第1.2.4或5项之平面光学扫描头,其中在扫描光束之光径上安置有一透镜。10.根据申请专利专围第1.2.4或5项之平面光学扫描头,其中该检波光栅、输出光栅及输入光栅各划分成n组具有m个相同扇形之群,各鬲形相互联接在对称安置,此三光栅的对应扇形组群构成放射源的一具有已知波长的光束 |
