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发明名称 PROCESS FOR THERMALLY DEPOSITING SILICON NITRIDE AND SILICON DIOXIDE FILMS ONTO A SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP0417202(B1) 申请公布日期 1993.02.03
申请号 EP19890907443 申请日期 1989.05.22
申请人 OLIN CORPORATION 发明人 DORY, THOMAS, S.
分类号 B05D5/12;B05D7/24;C03C17/22;C03C17/245;C23C16/34;C23C16/40;C23C16/42;C23C16/46;C23C16/52 主分类号 B05D5/12
代理机构 代理人
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