| 发明名称 |
WAFER SUSCEPTOR |
| 摘要 |
L'invention concerne un suscepteur de tranches destiné à supporter et à chauffer des tranches de semi-conducteur, lequel est placé dans une chambre de réaction d'un appareil de production de semiconducteurs. Le suscepteur de tranches comprend un élément de support générateur de chaleur destiné à supporter et à chauffer la tranche, ainsi qu'un mince revêtement déposé sur l'élément de support générateur de chaleur, ledit revêtement présentant un ou des orifices à travers lesquels les gaz des impuretés sont libérés de l'élément de support générateur de chaleur. |
| 申请公布号 |
WO9313548(A1) |
申请公布日期 |
1993.07.08 |
| 申请号 |
WO1988JP00067 |
申请日期 |
1988.01.28 |
| 申请人 |
OHMI, TADAHIRO;UMEDA, MASARU |
发明人 |
OHMI, TADAHIRO;UMEDA, MASARU |
| 分类号 |
H01L21/31;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/22;H01L21/673;H01L21/687 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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