| 主权项 |
1﹒一种含有用于稳定至少一种如式(Ⅰ)之3─异唑酮之稳定剂的组成物,其系含一有效量之六亚甲基四胺(HMT)为稳定剂式中Y系选自由氢;具有1至18个碳原子之烷基或取代烷基,具有2到8个碳原子之未取代或卤素取代之烯基或炔基,具有3至12个碳原子之环烷基或取代之环烷基;芳烷基或卤素─,较低级烷基─,或较低级烷氧基取代之高至10个碳原子的芳烷基;及芳基,卤基─,较低级烷基,或较低级烷氧基所取代之高至10个碳原之芳基所组成之族群;及X及X'系分别选自由氢、部@膳孺M(C1─C4)烷基所组成之族群。2﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中之一种或多种3─异唑酮系选自由5─氯─2─甲基─3─异唑酮、2─甲甚─3─异唑酮、2─正─辛基─3─异唑酮、4,5─二氯─2─环己基─3─异唑酮,及4,5─二氯─2─辛丁─3─异异唑酮所组成之族群。3﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中HMT及5─氯─2─甲基─3─异唑酮和2─甲基─3─异唑酮之混合物。4﹒如申请专利范围第1项之组成物,包括HWT和2─正─辛基─3─异唑酮。5﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中包括之3─异唑酮之含量为0﹒1到99%之重量比,包括之HMT之含量为0﹒1到99%之重量比,而该组成物更包括达99%之重量比之溶剂。6﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中包括之3─异唑酮之含量为0﹒1到5%之重量比,包括之溶剂之含量为90到99%之重量比。7﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中包括之3─异唑酮之含量为0﹒1到1%之重量比,包括之HMT之含量为0﹒1到1%之重量比,包括之溶剂之含量为98到99%之重量比。8﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中HMT对3─异唑酮之重量比为1:50到20:1。9﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中HMT对3─异唑酮之重量比为1:1到20:1。10﹒如申请专利范围第1项之组成物,该组成物并包括一种多元醇溶剂。11﹒一种用于抑制或防止细菌、霉菌、或藻类在一易受污染或对污染敏感的场所中生长之组成物,系包括至少一种如式(Ⅰ)之3─异唑酮及一种作为稳定剂之六亚甲基四胺:Y系选自由氢;具有1至18个碳原子之烷基或取代烷基,具有2到8个碳原子之未取代或卤素取代之烯基或炔基,具有3至12个碳原子之环烷基或取代之环烷基;芳烷基或卤素─,较低级烷基─,或较低级烷氧基取代之高至10个碳原子的芳烷基;及芳基,卤基─,较低级烷基,或较低级烷氧基所取代之高至10个碳原之芳基所组成之族群;及X及X'系分别选自由氢、卤素和(C1╮@wC4)烷基所组成之族群。12﹒如申请专利范围第11项之组成物,其中该场所系选自金属加工流体、切削油、冷却水系统、化粧品配方、涂料、及膜形成剂。 |
