发明名称 制备二氢苯并[b]噻吩的方法
摘要 本发明公开了制备具有抗真菌活性的二氢苯并[b]噻吩化合物的方法。该化合物可用于治疗敏感性宿主(如人)的真菌感染。
申请公布号 CN1022105C 申请公布日期 1993.09.15
申请号 CN86105964.6 申请日期 1986.08.06
申请人 先灵公司 发明人 迪南纳思·法基尔·拉纳;拉塞尔·埃德温·派克
分类号 C07D409/06;A61K31/41 主分类号 C07D409/06
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 李雒英
主权项 1、制备式Ⅰ所示的有治疗活性的化合物的方法,<img file="861059646_IMG1.GIF" wi="800" he="297" />式中X为卤素;Y为咪唑基或1,2,4-三唑基;R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>彼此独立地为氢、-CH<sub>2</sub>NR<sub>5</sub>R<sub>6</sub>、-NR<sub>5</sub>R<sub>6</sub>、-OR<sub>4</sub>、低级烷基、低级炔基、卤素、苯基、或卤素取代的苯基,或者R<sub>1</sub>或R<sub>2</sub>与它们所连的碳原子一起形成羰基;<img file="861059646_IMG2.GIF" wi="800" he="137" />而R<sub>7</sub>、R<sub>8</sub>和R<sub>9</sub>彼此独立地为氢或卤素取代的苯基;R<sub>4</sub>为氢、低级链烯基、N,N-二低级烷基硫代氨基甲酰基、被卤素任意取代的苯基羰基、或被卤素任意取代的苯基低级烷基或苯基;R<sub>5</sub>和R<sub>6</sub>与它们所连的氮原子一起表示一个5-元杂环;n=1或2;m=1,其特征在于:为制备其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>与它们所连的碳原子一起形成羰基,而R<sub>3</sub>为基团<img file="861059646_IMG3.GIF" wi="287" he="163" />的式Ⅰ化合物,在溶剂中加热式V的化合物,生成式Ⅰa的化合物,其中R<sub>7</sub>、R<sub>8</sub>、R<sub>9</sub>、X、Y、n和m的定义同前所述,<img file="861059646_IMG4.GIF" wi="800" he="723" />根据需要,可按下面列出的后续方法(i)至(vii)中的一步或几步进行反应:(i)为制备其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>中的一个为氢原子,另一个为羟基的式(Ⅰ)化合物,用金属硼氢化物或氢化铝还原式Ⅰb的化合物,生成式If的化合物<img file="861059646_IMG5.GIF" wi="800" he="467" />其中R、X、Y、m和n的定义同前所述;(ii)为制备其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>中一个为氢原子,另一个为-NR<sub>5</sub>R<sub>6</sub>或-OR<sub>4</sub>的式Ⅰ化合物,使式Ⅰg的化合物,与式L<sub>3</sub>-R<sub>4</sub>,L<sub>3</sub>-R<sub>5</sub>或L<sub>3</sub>-R<sub>6</sub>的化合物反应,生成式Ih的化合物<img file="861059646_IMG6.GIF" wi="800" he="501" />其中,R<sup>′</sup><sub>2</sub>为-OH或-NH<sub>2</sub>;R<sup>″</sup><sub>2</sub>为-NR<sub>5</sub>R<sub>6</sub>或-OR<sub>4</sub>;L<sub>3</sub>为离去基团;R<sub>3</sub>、X、Y、m和n的定义同前所述;(ⅲ)为制备其中R<sub>3</sub>为<img file="861059646_IMG7.GIF" wi="360" he="183" />的式Ⅰ化合物,将式Ⅰj的化合物催化加氢,生成式Ⅰk的化合物<img file="861059646_IMG8.GIF" wi="800" he="269" /><img file="861059646_IMG9.GIF" wi="800" he="275" />其中R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>、R<sub>7</sub>、R<sub>8</sub>、R<sub>9</sub>、X、Y、m和n的定义同前所述;(iv)为制备其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>中的一个为卤素的式Ⅰ化合物,使式Ⅰm的化合物与卤化试剂在羟基基团处反应,生成式Ⅰn的化合物<img file="861059646_IMG10.GIF" wi="800" he="549" />其中Hal代表卤素;R<sub>1</sub>、R<sub>3</sub>、X、Y、m和n的定义同前所述;(v)为制备其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>二者都为氢的式Ⅰ化合物,使下式的化合物脱去卤素,<img file="861059646_IMG11.GIF" wi="800" he="323" />生成下式的化合物<img file="861059646_IMG12.GIF" wi="800" he="225" />其中Hal为卤素;R<sub>3</sub>、X、Y、m和n的定义同前所述;(ⅵ)为制备其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>中的一个为取代或未取代的杂环基的式Ⅰ化合物,该取代基同前所述,使下式的化合物与式H-Het的化合物反应,<img file="861059646_IMG13.GIF" wi="800" he="321" />生成下式的化合物<img file="861059646_IMG14.GIF" wi="793" he="303" />其中Het为取代或未取代杂环基;Hal为卤素;R<sub>1</sub>、R<sub>3</sub>、X、Y、m和n的定义同前所述;(ⅶ)为制备其中R<sub>1</sub>或R<sub>2</sub>中的一个为低级烷基或低级炔基,另一个为羟基的式Ⅰ化合物,使式Ⅰb的化合物在羰基基团处进行还原性烷基化反应<img file="861059646_IMG15.GIF" wi="800" he="235" />生成下式的化合物<img file="861059646_IMG16.GIF" wi="797" he="283" />其中Alk为低级烷基或低级炔基;R<sub>3</sub>、X、Y、m和n的定义同前所述。
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