| 主权项 |
1﹒一种以戚格勒─纳他触媒系统在20至160℃及1至100巴下藉聚合单体而制备丙烯同聚物之方法,该触媒系统包括:(1)钛组份,其基于细分赋形矽胶,且含、镁、氯与苯羧酸衍生物;(2)具下式之铝组份AlR3其中R为具不多于8个碳原子之烷基,及(3)具下式之矽烷组份RnSi(OR2)4─n其中R1为具不多于16个碳原子之饱和脂族及/或芳族烃基,R2为具不多于15个碳原子之烷基,而n为由0至3;但其先决条件为:钛组份(1)中之钛对铝组份(2)中之铝之原子比为由1:10至1:800,且铝组份(2)对矽烷组份(3)之莫耳比为由1:001至1:0﹒8,其中所用钛组份(I)上获得方法为首先:(1﹒1)在第一阶段中,(I)载体系由下列物质制成:(Ia)具粒子直径由1至1,000微米、孔隙体积由0﹒3至5立方毫米/克及表面积由100至1,000平方公尺/克之细分矽胶,其式为:S1O2.aAI2O3(其中a由0至2,S1为矽,O为氧,Al为铝),且具有的水分含量当在1000℃下经过0﹒5小时后失去基于矽胶原始总重为准1至20重量百分比;(1b)式MgR3R4之有机镁化合物,其中R3及R4每一为2至10个碳之烷基,以及(Ic)式为CIZ之气态氯化剂,(其中Z为氯或氢);且以下列方式进行:首先(1﹒1﹒1)在第一子阶段中,细分矽胶(la)及有机镁化合物(lb)以10莫耳部份矽胶(Ia)矽使用1至10莫耳部份有机镁化合物(Ib),在10至120℃液态惰性烃类内持续充分混合,且混合后物质较优地在由20至140℃下保存由0﹒5至5小时,而后;(1﹒1﹒2)在第二子阶段中,气态氯化剂(Ic)在每莫耳部份有机镁化合物(Ib)中使用由2至40莫耳部份氯化剂(Ic)下通过第一子阶段所得混合物中而持续充分混合;而后(1﹒2)在第二阶段中,由第一阶段所得之(Ⅰ)载体(Ⅱ)2至8个碳之烷醇(Ⅲ)四氯化钛以及(Ⅳ)下式之酸衍生物(其中X及Y一起为氧或X及Y分别为氯或1至10个碳之烷氧基)制得固态中间体,其方法为首先:(1﹒2﹒1)在第一子阶段中,载体(I)及烷醇(Ⅱ)在液态惰性烃类中及在每莫耳部份载体(I)之镁使用由1至5莫耳部份烷醇(Ⅱ)下,持续充分混合,且混合物质较优在20至140℃保存0﹒5至5小时,然后(1﹒2﹒2)在第二子阶段中,四氯化钛(Ⅲ)在每莫耳部份载体(I)之镁使用2至20莫耳部份四氯化钛(Ⅲ)下,持续混合而引入第一子阶段所得之反应混合物中;但其先决条件为酸衍生物(Ⅳ)至少在(1﹒2﹒1)成(1﹒2﹒2)两阶段之时引入,使每莫耳部份软体(I)之镁有0﹒01至1莫耳部份之酸衍生物(Ⅳ);而后(1﹒3)在第三阶段中,由第二阶段所得之固态中间能在100至150℃施以一阶段或多阶段或连续萃取0﹒2至5小时,第二阶段所得固态中间体每10部份重量使用共有由10至1,000部份重量之至少含四氯化钛5重量百分比的四氯化钛或四氯化钛与具高至12碳原子烷基苯之混合物;且最后(1﹒4)在第四阶段中,在第三阶段形成之固态产物以液态惰性烃类清洗,直至烃类含低于2重量%四氯化为止;因此获得钛组份(I)。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中使用之触媒系统之矽烷组份(3)为下式:其中R1为苯基或C1─C4烷基苯基,R2为具不大于4个碳原子之烷基,而n为1或2。3﹒根据申请专利范围第2项之方法,其中使用之触媒系统中,其矽烷组份(3)如下式其中R1为甲苯基或乙苯基,R2为甲基或乙基,而n为1或2。 |
