| 主权项 |
1﹒一种式I化合物及其立体异构物 式中: m为3,4或5; R1为直饪C1─C3烷基; R5及R6各为H,OCH3或C1─C2烷 基; Q为CH2W;且 W为苯基,其可随意经1─3个选自卤 素或甲基中之取代基取代。 2﹒一种式Ⅱ化合物及其立体异构物 其中: m为3,4或5; R2为H或C1─C4烷基; R5及R6各为H,OCH3或C1─C2烷 基; Q为CH2W;且 W为苯基,其可随意经1─3个选自卤 素或甲基中之取代基取代。 唯先决条件为: 当m为3,R2为CH3,R5为H,且 R6为OCH3且对含氧键为反(anti)的时, 则Q非为 CH2(2─CH3)C6H4。 3﹒一种式Ⅲ化合物及其立组异构物 其中: n为2,3或4; R1为直饪C1─C3烷基; R2为H或C1─C4烷基; R3为H或C1─C4烷基; R5与R6各为H,OCH3或C1─C2烷 基; Q为CH2W;且 W为苯基,其可随意经1─3个选自卤 素或甲基中之取代基取代。 4﹒一种式V化合物及其立体异构物 其中 m为3,4或5; R1为直链C1─C3烷基; R3与R4各为H或C1─C4烷基; R5及R6各为H,OCH3或C1─C2烷 基; Q为CH2W;且 W为苯基,其可随意经1─3个选自卤 素或甲基中之取代基取代。 5﹒一种式XⅢ化合物及其立体异构物 其中: p为2或3; R2为H或C1─C4烷基; R5及R6各为H,OCH3或C1─C2烷 基;且 W为苯基,其可随意经1─3个选自卤 素或甲基中之取代基取代。 6﹒如申请专利范围第1至5项中任一项之化 合物, 其中: W为苯基,其可随意经1─2个选自 F,CI,Br及CH3中之取代基取代;且 R5与R6各为H或C1─C2烷基。 7﹒如申请专利范围第2,3或5项之化合物 ,其中: R2为H或C1─C3烷基。 8﹒如申请专利范围第4项之化合物,其中: R3为H; R4为H。 9﹒如申请专利范围第8项之化合物,其中: R5与R6各为H。 10﹒如申请专利范围第3项之化合物,其中 R1为CH3或CH2CH3; R2为H,CH3,或CH2CH3;且 R3为H。 11﹒如申请专利范围第3项之化合物,系选 自以下群中: (2,3,4,5,7a)─3─ [(2─氟苯基)甲氧基]八氢─2,4a ─二甲基─2,5─伸甲基环五喃,(2 ,3,4a,5,9a)─3─[ (2,6─二氟苯基)甲氧基]八氢─2 ─甲基─2,5─伸甲基环七喃,(2 ,3,4a,5a,7a)─3─[( 2─氟苯基)甲氧基]八氢─2─甲基─ 2,5─伸甲基环五喃,(2,3, 4a,5,9a)─3─[(2─氟苯 基)]甲氧基]十氢─2─甲基─2,5 ─伸甲基环七喃,(2,3,4a, 5,7a)─八氢─2,4a─二甲基─ 3─(苯甲氧基)─2,5─伸甲基环五 喃,(2,3,4a,5,7a) ─3─[(2─氯苯基)甲氧基)八氢─ 2,4a─二甲基─2,5─伸甲基环五 喃及(2,3,4a,5,7a)─ 八氢─2,4a─二甲基─3─[(2─甲 苯基)甲氧基]─2,5─伸甲基环五 喃。 12﹒一种除草用之组成物,其用以控制不期 望植物之生长,其包括有效量之如申请专 利范围第1─5项中任一项之化合物,及 至少一种下者:表面活性剂,固体稀释剂 或液体稀释剂。 13﹒一种控制不期望植物之生长之方法,其 包括在欲保护地区施以有效量之如申请专 利范围第1─5项中任一项之化合物。 |
