| 主权项 |
1.一种用以监测存在于一来自一清洁用容器(12)之(在管线32内之)超临界流体流束内之污染物量改变之系统,所述系统包含:取样装置(50.52),连接至(在管线32内之)所述流束用以自所述流束移除至少一部份之超临界流体以及引导所述部份之超临界流体进入一污染物测量区(46)内作为一试样束;减压装置(58),连接至所述测量区(48)用以将所述测量区(48)内之压力维持于将所述试样束转变成气体所需之位准或以下,其中所述存在于所述试样束内之所述染物保持非气体形式(60);一石英晶体微量天平系统(62),置于所述测量区(48)内用以测量由所述试样束引进所述测量区(48)之污染物量之改变,从而提供对在来自所述清洁用容器(12)之(在管线32内之)所述超临界流体流束内之污染物量改变之监测作用。2.如申请专利范围第1项之系统,其中所述取样装置(50、52)包含一毛细取样管(50),具有一入口(54)连接至所述超临界流体流束;以及一出口(56)位于所述污染物测量区(48)内,所述试样束即经其引进所述测量区(48)。3.如申请专利范围第2项之系统,其中所述取样装置(50、52)包括一取样阀(52),可于开启与关闭位置间操作俾以可控制方式将所述试样束引进所述测量区(48)。4.如申请专利范围第2项之系统,其中所述取样装置(50、52)包括位于所述毛细管(50)之所述出口(56)邻近之装置(70),俾于所述试样束从所述出口(56)离开所述毛细管(50)时以可控制方式将污染物移离所述试样束。5.如申请专利范围第4项之系统,其中以可控制方式将污染物移离所述试样束之所述装置(70)包含一位于所述毛细管出口(56)邻近之开闭器,所述开闭器可于一其中污染物不为所述开闭器攫获之开启位置与一其中所述污染物被所述开闭器攫获并移离所述试样束之关闭位置间操作。6.如申请专利范围第1项之系统,其中所述测量区(48)位于一测量容器(46)内且其中所述减压装置(58)包含一在所述容器内之减压开孔,其尺寸大至足以允许充份之气体逃离所述容器以维持所述测量区内之压力于一周围位准。7.如申请专利范围第1项之系统,其中所述石英晶体微量天平系统(62)包含一位于所述测量区内之石英晶体微量天平检波器(62),其中所述检波器包含一石英晶体切片暴露于沉积其上之所述污染物,所述系统尚包括用以定期将所述污染物清离所述石英晶体切片之装置。8.如申请专利范围第7项之系统,其中所述用以定期将所沉积污染物清离所述石英晶体切片之装置包含:一在所述容器内之清洁用流体入口(68);用以引导清洁用流体与所述石英晶体切片接触之装置,以产生含有自所述石英晶体切片移除之污染物之已用清洁用流体;以及用以将所述已用清洁用流体移离所述容器之装置(58)。9.如申请专利范围第7项之系统,其中所述石英晶体微量天平系统(62)包含一石英晶体微量天平基准(64)以及用以建立一差频于所述石英晶体微量天平检波器(62)与所述石英晶体微量天平基准(64)间之装置(66),其中所述差频之改变提供所述测量区(48)内所引进污染物量改变之一指标。图1为一超临界流体清洁/萃取系统之示意表示,包括一依照本发明之污染物监测器。图2为一依照本发明之一 |
