| 发明名称 |
Process for preparing of semiconductor device and pattern-forming coating solution used for this process. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0385447(B1) |
申请公布日期 |
1994.12.28 |
| 申请号 |
EP19900103923 |
申请日期 |
1990.02.28 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
NAKAMURA, YUKO;TAKECHI, SATOSHI |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;H01L21/311;H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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