| 主权项 |
1.一种去除玻璃物体上金属性遮罩层之方法,该方法藉由利用氟或氯化物等离子体进行蚀刻,而该层中含有盐类及/或氧化物残余物,在其中金属性遮罩层为矽,以及在进行蚀刻前先进行清理工作,其利用最高为0.40重量比相当于37盐酸之稀释水溶液来处理。2.依据申请专利范围第1项之方法,在其中盐酸之稀释水溶液浓度最高为0.1重量比。3.依据申请专利范围第1项之方法,在其中玻璃物体在进行蚀刻前进行离子交换处理。4.依据申请专利范围第1项之方法,在其中盐类及/或氧化物包含铊盐类及/或氧化铊。5.一种利用离子交换法在玻璃物体中形成集体光学通路之方法,其中矽遮罩使用来界定要产生离子交换之范围,其中矽遮罩之去除利用活性离子蚀刻法达成。6.依据申请专利范围第5项之方法,在其中活性离子蚀刻包含利用六氟化硫等离子体加以蚀刻。7.依据申请专利范围第5项之方法,在其中矽遮罩含有铊 |
