发明名称 暂停式涂布装置
摘要 本创作揭示一种暂停式涂布装置,此涂布装置为用于施加涂布材料至一由支承构件所支承之幅片者。该装置包括一配置为紧靠背支承构件之框架,致使幅片在框架与支承构件之间移动。框架界定一涂敷区,此涂敷区连接至涂布材料之加压源。涂敷区有开口面朝向幅片。一刮刀以调整式固着至框架,并自框架向幅片延伸。刮刀界定涂敷区之顺流末端。一由框架所支承之活动式分流器伸入涂敷区。分流器有一顺流端及一逆流端,顺流端以活动式配置在刮刀附近,以供减小涂敷区内由于幅片移动经过开口面所产生之涡流大小。
申请公布号 TW242284 申请公布日期 1995.03.01
申请号 TW082208477 申请日期 1992.10.29
申请人 贝洛伊特科技公司 发明人 詹姆斯.L.钱斯
分类号 B05C11/02 主分类号 B05C11/02
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1.一种暂停式涂布装置,用以涂敷涂料至一由支承构件所支承之幅片,该装置包含:一框架,配置为紧靠支承构件,致使幅片在该框架与支承构件之间移动,该框架界定一涂敷区,此涂敷区连接至涂料之加压源,该涂敷区有一开口面朝向幅片;刮刀,可调整式固定至上述框架,并自该框架向幅片延伸,该刮刀界定上述涂敷区之顺流末端;活动式分流器,由上述框架所支承,并伸入上述涂敷区,该分流器有一逆流端及一顺流端,该顺流端以活动式配置在刮刀附近,用以减小由于幅片移动经过上述开口面而在涂敷区内所产生之涡流之大小,该逆流端为相对于幅片静止;以及该分流器为一挠性板,此板在其顺流端不予支承,致使该板在该涂敷区内振动,以供减弱及减小该涡流之大小。2.如申请专利范围第1项之暂停式涂布装置,其中上述涂敷区另包括:一连接至上述加压源之进口;以及一出口。3.一种如申请专利范围第2项之暂停式涂布装置,另包括:一固定挡板,伸入上述涂敷区,并配置在上述分流器与出口之间,用以控制涂料在涂敷区内自上述进口至出口之流动方向者。4.如申请专利范围第2项之暂停式涂布装置,其中上述开口面自上述进口延伸至刮刀者。5.如申请专利范围第1项之暂停式涂布装置,其中上述刮刀另包括:一第一端及一第二端,该第一端配置为靠近幅片,用以计量来自幅片之过量涂料;一配置在上述刮刀第二端相邻处之装置,用以使该刮刀之第二端相对于上述框架固定;一气压管,配压于上述刮刀之第一端与第二端之间,用以控制刮刀之第一端所施加之压力,致使刮刀所计量之涂料量受到控制者。6.如申请专利范围第1项之暂停式涂布装置,其中上述活动式分流器系一实心之聚碳酸酯树脂板者。7.如申请专利范围第1璜之暂停式涂布装置,其中上述活动式分流器为一种复合材料,该复合材料包括聚碳酸酩树脂者。8.如申请专利范围第1项之暂停式涂布装置,其中上述活动式分流器系予穿孔者。9.如申请专利范围第1项之暂停式涂布装置,其中上述活动式分流器为实心者。10.如申请专利范围第2项之暂停式涂布装置,其中:该分流器之逆流端配置在上述进口附近,该配置为致使通过上述进口进入涂敷区之涂料流动被该分流器分为一第一流动路径及一第二流动路径,该第一流动路径配置在幅片与分流器之间,第二流动路径配置在分流器与出口之间,因而该分流器装置会减小由于空气进入上述框架与幅片间之涂敷区而在该涂敷区内所产生之涡流者。11.如申请专利范围第10项之暂停式涂布装置,其中:该挠性板为在其逆流端予以紧固者。12.如申请专利范围第12项之暂停式涂布装置,其中:该分流器为一挠性板,此板包括一聚碳酸酯树脂,致使此板在涂敷区之内振动,该分流器上界定多个洞孔用以减弱上述涂敷区内涡流之产生,因而减少在高涂布速度时所涂布
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