首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Electron Beam Lithography System
摘要
申请公布号 CA2131670(A1) 申请公布日期 1995.06.24
申请号 CA19942131670 申请日期 1994.09.08
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 PFEIFFER, HANS C.;STICKEL, WERNER
分类号 G03F7/20;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com