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LA INDUSTRIA DE LA ELECTRONICA NECESITA QUE EL PEROXIDO DE HIDROGENO QUE UTILIZA ESTE PURIFICADO A NIVELES MUY BAJOS DE IMPUREZAS, DE HECHO AL NIVEL DE UNOS POCOS PPB PARA ALGUNAS IMPUREZAS, O INCLUSO MENOR. SIN EMBARGO, LOS METODOS EXISTENTES SON BIEN INHERENTEMENTE INSEGUROS PUES PONEN EN CONTACTO EL PEROXIDO DE HIDROGENO CONCENTRADO CON UN CONCENTRADO DE AGENTES DE DESCOMPOSICION DE METALES DE TRANSICION PARA EL PEROXIDO Y UNA RESINA DE PURIFICACION QUE ACTUA COMO UNA FUENTE DE CARBONO, O BIEN SON INCAPACES DE ALCANZAR EL NIVEL DE IMPUREZA DESEADO. EN EL PROCESO DE PURIFICACION INSTANTANEA, SE HACE PASAR A LA SOLUCION DE PEROXIDO DE HIDROGENO A TRAVES DE UNA MEMBRANA QUE TIENE UN TAMAÑO DE POROS MUY PEQUEÑO Y QUE CONTIENE UNA RESINA DE INTERCAMBIO DE IONES QUE ES CAPAZ DE EXTRAER LOS IONES DE METALES ALCALINOS O ALCALINO-TERREOS DE LAS SOLUCIONES. LA SOLUCION DE ALIMENTACION SE CARACTERIZA PORQUE NO CONTIENE MAS QUE UNA PEQUEÑA PROPORCION EN PESO DE METALES DE TRANSICION QUE CATALIZA LADESCOMPOSICION DEL PEROXIDO DE HIDROGENO EN COMPARACION AL CONTENIDO TOTAL DE METALES. EN ALGUNAS PUESTAS EN PRACTICA DE LA INVENCION, LA SOLUCION DE ALIMENTACION RESULTA DE UN TRATAMIENTO ANTERIOR DE UNA SOLUCION CONTAMINADA DE HIERRO O COBRE CON UNA DISPERSION DE OXIDO ESTANNICO.
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