发明名称 瓦斯炉烤盘结构改良
摘要 本创作系关于一种瓦斯炉烤盘结构改良,其系由可以置设于瓦斯炉炉架上方之矩形盘座及嵌设盘座顶面之矩形烤盘所组成;该烤盘之盘面凸起且周缘形成一圈挡缘,并于盘面与挡缘之间开设系列长形条孔,且其盘面以对角布设形态凹设系列两端导通对应条孔之凹沟;该盘座于其中孔外围形成供冷浴水承装之承水槽,并于盘座底部四端角处凹设对应炉架支撑片之嵌凸部,而盘座顶缘设有供烤盘定位之嵌卡缘,藉由前述构造之配合,组构成一种定位稳固且烧烤效果良好之烤盘改良结构者。
申请公布号 TW270331 申请公布日期 1996.02.11
申请号 TW084212221 申请日期 1995.08.25
申请人 胜立工业股份有限公司 发明人 李长庚
分类号 A47J37/01 主分类号 A47J37/01
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种瓦斯炉烤盘结构改良,其由可以置设于瓦斯炉炉架上方之盘座及嵌置于盘座顶面之烤盘组成;其中,盘座系中央区域形成贯通状中孔之盆体结构,并于中孔外围形成供冷浴水承装之承水槽,且对应于炉架之各支撑片,盘座底部凹设底面形成凹掣缘之嵌凸部,而盘座顶部之周缘凹设供烤盘定位之阶梯状嵌卡缘;烤盘系中央具封闭状盘面之板片体,并于盘面周围开设有系列贯通之长形条孔,而且其盘面布设有系列凹沟连通前述条孔之凹沟;其特征在于:盘座为矩形盆体形态,并且其嵌凸部系设于该盘座底部之各端角处者;又,烤盘之周缘凸设一圈挡缘且中央之盘面具适当凸起,并以对角等距间隔排列形态于盘面凹设两端导通相对应条孔之系列凹沟者。2.如申请专利范围第1项所述之瓦斯炉烤盘结构改良,其中,烤盘盘面之各凹沟位于盘面中央凸起处较为窄浅形成窄浅区,并且其邻接条孔处较为宽深形成宽深区者。图示简单说明:第一图:系本创作较佳实施例之立体分解图,用以说明本创作之结构形态及组置关系。第二图:系本创作较佳实施例之立体外观图,用以说明本创作之组合配置形态及相对于瓦斯炉之定位关系。第三图:系本创作较佳实施例之组合剖面视图,加强说明本创作之组置形态及相对于瓦斯炉、炉架之定位关系。第四图:系习用第一代烤盘结构之立体分解图,用以说明习用第一代烤盘结构之构件形状及组置关系。第五图:系习用第二代烤盘结构之立体分解图,用以说明
地址 台中县清水镇光华路一一四号