发明名称 UNDER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR IMPRINTS AND METHOD OF FORMING PATTERN
摘要 본 발명은 표면 평면성이 우수한 하층막을 제공한다. 에틸렌성 불포화기(P) 및 비이온성 친수성기(Q)를 함유하고 중량 평균 분자량이 1,000 이상인 (메타)아크릴계 수지(A); 및 용제(B)를 포함하는 임프린트용 하층막 형성 조성물로서, 상기 수지(A)의 산가는 1.0mmol/g 미만이고, 에틸렌성 불포화기(P), 및 비이온성 친수성기(Q)로서 환 구조 내에 카르보닐기를 갖는 환상 치환기(Q2)를 함유하고, 중량 평균 분자량이 1,000 이상인 (메타)아크릴산 수지(A2); 및 용제(B)를 포함하는 임프린트용 하층막 형성 조성물을 제공한다.
申请公布号 KR101669030(B1) 申请公布日期 2016.10.25
申请号 KR20147035329 申请日期 2013.06.13
申请人 후지필름 가부시키가이샤 发明人 키타가와 히로타카;핫토리 아키코;에노모토 유이치로
分类号 C08F20/14;B29C59/02;C08F8/00;C08F20/26;C08L33/02;C08L33/14;G03F7/00;H01L21/027 主分类号 C08F20/14
代理机构 代理人
主权项
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