发明名称 具有低可见光透射与低可见光反射之光学装置
摘要 一种具有低可见光透射率与低可见光反射率之太阳光控制薄膜由2层或更多层透明基底(14)构成,每层透明基底载有一薄、透明、不连续、且不连贯的金属薄膜(18),该金属薄膜有低可见光反射率及某程度的可见光阻挡能力,该等基底被组合且叠层成一复合体(10)以使该等金属薄膜之可见光阻挡能力被有效地结合以提供一种具有低可见光透射率及低可见光反射率之复合体。性能特性之提升是藉在一个或更多基底上提供一具有高折射系数的透明覆膜(16)于金属薄膜下。该高折射系数材料宜为合成的高含氧率铋氧化物,其有助于该种太阳光控制薄膜的有效率且经济的生产。
申请公布号 TW281730 申请公布日期 1996.07.21
申请号 TW084111526 申请日期 1995.11.01
申请人 沈淀工业技术公司 发明人 彼得.永宁.杨
分类号 G02B5/00 主分类号 G02B5/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1. 一种具有低可见光透射率及低可见光反射率的太阳光控制薄膜,该太阳光控制薄膜包括一第一透明基底材料薄片,其上有一薄的不连贯透明金属薄膜,该金属薄膜可有效部份阻挡可见光透射且具有预定之低可见光反射率,一第二透明基底材料薄片,其上有一薄的不连贯透明金属薄膜,该金属薄膜可有效部份阻挡可见光透射且具有预定之低可见光反射率,及一粘胶层,该粘胶层将该第一与第二薄片彼此胶合,其中的诸金属薄膜彼此面对且分离并在光学上彼此隔绝,该等胶合薄片形成一复合薄膜,该复合薄膜之联合可见光透射阻挡效果约等于诸不连贯薄膜之阻挡效果的总和,且其可见光反射率约等于诸不连贯薄膜中仅一不连贯薄膜的可见光反射率,各不连贯薄膜之可见光反射率是使复合薄膜之可见光反射率在可见光透射率约为50%或更低时不超过约12%、在可见光透射率约为35%或更低时不超过约15%、且在可见光透射率约为25%或更低时不超过约20%。2. 根据申请专利范围第1项之太阳光控制薄膜,其中该等基底材料薄片中至少一基底材料薄片载有一层高折射系数材料介于基底与不连贯金属薄膜之间,以便进一步控制复合薄膜之可见光透射率与可见光反射率。3. 根据申请专利范围第2项之太阳光控制薄膜,其中该高折射系数材料系由下列材料中选择:氮化矽、铬、铌和钛的氧化物、及合成的铋氧化物,该合成的铋氧化物之氧对铋的原子比率为约1.7到约2.5。4. 根据申请专利范围第1项之太阳光控制薄膜,其中该薄的不连贯金属薄膜系由下列材料中选择:金、银、镍、铬及其合金和不锈钢。5. 根据申请专利范围第1项之太阳光控制薄膜,该太阳光控制薄膜包括一第三透明基底材料薄片,该第三薄片上有一薄的不连贯透明金属薄膜,该金属薄膜可有效部份阻挡可见光透射且具有与其他诸不连贯薄膜大致相同的低可见光反射率,该第三薄片被夹层且实体胶合在该第一与第二薄片之间,而其上之不连贯金属薄膜和该第一与第二薄片上之不连贯金属薄膜分离且在光学上隔绝。6. 根据申请专利范围第5项之太阳光控制薄膜,其中该等基底材料薄片中的一个、两个或全部载有一层高折射系数材料介于基底与不连贯金属薄膜之间,以便进一步控制复合薄膜之可见光透射率与可见光反射率。7. 根据申请专利范围第1项之太阳光控制薄膜,该太阳光控制薄膜包括一层对压力敏感的粘胶在复合薄膜的一侧上,用来将复合薄膜胶合在一窗户上,该太阳光控制薄膜也包括一保护覆膜在复合薄膜的另一侧上,用来保护该薄膜免受损伤。8. 一种具有低可见光透射率及低可见光反射率的太阳光控制薄膜,该太阳光控制薄膜包括一第一透明基底材料薄片,其上载有一薄的高折射系数透明材料层及一薄的覆盖在该高折射系数材料上的不连贯透明金属覆膜,该金属薄膜可有效部份阻挡可见光透射穿过该被覆膜之基底且具有预定之低可见光反射率,一第二透明基底材料薄片,其上载有一薄的高折射系数透明材料层及一薄的覆盖在该高折射系数材料上的不连贯透明金属覆膜,该金属薄膜可有效部份阻挡可见光透射穿过该被覆膜之基底且具有预定之低可见光反射率,及一粘胶层,该粘胶层将该第一与第二薄片彼此胶合,其中的诸金属薄膜彼此面对且彼此在光学上隔绝且分离,该等胶合薄片形成一复合薄膜,该复合薄膜之联合可见光透射阻挡效果约等于诸不连贯薄膜之阻挡效果的总和,且其可见光反射率约等于诸不连贯薄膜中仅一不连贯薄膜的可见光反射率,各不连贯薄膜之可见光反射率是使复合薄膜之可见光反射率在可见光透射率不大于约25%时不超过约20%,在可见光透射率不大于约35%时不超过约15%,且在可见光透射率高达约50%时不超过约12%。9. 根据申请专利范围第8项之太阳光控制薄膜,该太阳光控制薄膜包括一第三透明基底材料薄片,该第三薄片上载有一薄的不连贯透明金属覆膜,该金属覆膜可有效部份阻挡可见光透射穿过该被覆膜基底且具有与其他诸不连贯薄膜大致相同的低可见光反射率,该第三薄片被夹层且实体胶合在该第一与第二薄片之间,而其上之不连贯金属薄膜和该第一与第二薄片上之不连贯金属薄膜分离且在光学上隔绝。10. 根据申请专利范围第8项之太阳光控制薄膜,其中该高折射系数材料包括反应溅射沉淀在基底材料上的合成的铋氧化物,该合成的铋氧化物之氧对铋的原子比率从1.7到2.5。11. 根据申请专利范围第8项之太阳光控制薄膜,其中该高折射系数材料系从铬、铌和钛的氧化物及氮化矽中选择。12. 一种制造具有低可见光透射率及低可见光反射率之太阳光控制薄膜的方法,该方法包括下列诸步骤在一透明基底上沉淀一薄的不连贯透明金属覆膜,该金属覆膜可有效部份阻挡可见光透射穿过该被覆膜基底,且足够薄且不连贯以拥有一预定的低可见光反射率,将许多个经覆膜之基底组合成一复合薄膜,以使诸不连贯金属覆膜在复合薄膜内部彼此面对且彼此分离并在光学上隔绝,且使得诸金属覆膜一起提供一足以提供一预定之低水准的可见光穿过复合薄膜之透射率的联合可见光阻挡效果,及将经覆膜的诸基底彼此叠层以提供一复合薄膜,该复合薄膜之联合可见光透射阻挡效果约等于诸不连贯金属覆膜之阻挡效果的总和,且该复合薄膜之低可见光反射率约等于诸不连贯金属覆膜中仅一不连贯金属覆膜之可见光反射率,各不连贯金属覆膜的可见光反射率是使复合薄膜之可见光反射率在可见光透射率不大于约25%时不超过约20%,在可见光透射率不大于约35%时不超过约15%,且在可见光透射率高达约50%时不超过约12%。13. 根据申请专利范围第12项之方法,其中该等经覆膜之基底藉由一个或更多个中介黏胶层彼此叠层且彼此分离且在光学上隔绝。14. 根据申请专利范围第12项之方法,该方法包括首先在基底上沉淀一薄的高折射系数透明材料层,然后在该高折射系数材料上沉淀该金属覆膜的步骤。15. 根据申请专利范围第14项之方法,其中该高折射系数材料之折射系数至少为2.0。16. 根据申请专利范围第12项之方法,该方法包括在基底上反应溅射沉淀-合成的铋的氧化物,该合成的铋的氧化物之氧对铋的原子比率从1.7到2.5,然后在该合成的铋氧化物上溅射沉淀该薄的金属覆膜。图示简单说明:图1是根据本发明提供之太阳光控制薄膜的一种较佳具体实例之截面及大幅比例放大的示意图,且包含2个本发明之低反射率装置或元件;图2是图1之复合结构的一种替代性具体实例之类似示意图;图3是根据本发明提供之太阳光控制薄膜的一种较佳具体实例之类似示意图,且由3个本发明之低反射率装置或元件构成,该图显示该薄膜黏着在一玻璃或窗框上;图4是图3之复合结构的一种替代性具体实例之类似示意图;图5是本发明之薄膜与传统市售太阳光控制薄膜间透射与反射光谱特性之比较图;图6是本发明之薄膜与传统市售太阳光控制薄膜间透射与吸收特性之比较图;图7是用来生产本发明之低反射率装置或元件的设备之示意图;且图8是铋的反应溅射在逐步增加之氧气部份压力下高含氧
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