| 主权项 |
1.一种用于至少两种可流动物质钝态混合的流动单元,具有一用于每一种物质的入口开口(31,32),一用于物质的共同的出口开口(33)以及一流床(21,21b)以混合这些物质,该流动单元具有一个片状的结构,该流床(21,21b)均为平面状的,其中流动单元对每一个物质均设有一分配器,其被设置在用于待检物质的入口开口(31,32)以及流床(21,21b)之间,这将这物质分设成为多数个分隔的薄流束,其中分配器上的薄流束到流床(21,21b)是以散布的型式设置,所以,在该流床上,相邻的薄流束与包括不同物质的薄流束相互接触。2.如申请专利范围第1项所述的流动单元,其中每一个分配器包括至少一个供应通道(22,26,22a,26a),一分配槽道(23,27,23a,27a)以及至少两个分配通道(24,28,24b,28b),该供应通道(22,26,22a,26a)由配合的用于物质的入口开口(31,32)延伸到配合的分配槽道(23,27,23a,27a)以及,除此而外,该分配通道(24,28,24b,28b)每一者在一端开口而进入到分配槽道(23,27,23a,27a)中,而另端则进入到流床(21,21b)中,结果物质便可以由相对应的入口开口(31,32)经由供应通道(22,26,22a,26a),该相对应的分配槽道(23,27,23a,27a)以及该分配通道@ps9,7 (24,28,24b,28b)@ps9,9.5 而进入到流床@ps9,7 (21,21b)@ps9,9.5 中。3.如申请专利范围第2项所述的流动单元,其中该流床@ps9,7 (21,21b)@ps9,9.3 在当由分配通道@ps9,7 (24,28,24b,28b)@ps9,9.3 的出口@ps9,7 (241,281,241b,281b)@ps9,9.3 到流床@ps9,7 (21,21b)@ps9,9.3 的距离增加时变窄,直到其进入导引到出口(33)的一个流动通道(29)为止。4.如申请专利范围第1项所述的流动单元,其包括,呈堆叠的设置,一盖片(4)以及一包括有入口开口(31,32)和出口开口(33)的基座片体(3),该主体(2)设置在盖片(4)和基座片体(3)之间并且在其面对盖片(4)的周围表面具有一个缺口部份,而形成流床(21,21b),该主体(2)同样在其周围表面面对基座片体(3)设有缺槽部份,形成为供应通道(22,26,22a,26a)以及分配槽道(23,27,23a,27a),另该盖片(4)以如是的方式连接到该主体(2)使之盖覆住流床(21,21b),而基座片体(3)以如是的方式连接到主体(2)上使之盖覆住供应通道(22,26,22a,26a)以及分配槽道(23,27,23a,27a)。5.如申请专利范围第2项所述的流动单元,其中分配器的每一个分配槽道(23,27,23a,27a)系呈弧状的槽道,该不同的分配槽道(23,27,23a,27a)系同心地延伸,其中属于一个进入到流床(21)的分配器的分配通道(24,28)的出口(241,281)在每一种情形下位在一个进给线,该进给线是呈圆形者,其中属于不同分配器的另外的进给线亦呈同心的延伸,使其具有一个共同的几何中心,该几何中心位在流床(21)进入到流动通道(29)的区域处。6. 如申请专利范围第5项所述的流动单元,其中流床(21)由其进入流动通道(29)的该点起变宽,其最初是呈一圆形的扇状,其中心与进给线的共同中心点重合,而其周围表面则包括具有最小半径的进给线,其中流床(21)由该进给线延伸,以径向通道(211)的型式设置在位于具有最小半径的进给线的出口(241)之间,一直延伸到分配通道(28)的向外延伸的出口(281)处为止。7.如申请专利范围第2项所述的流动单元,其中该分配器的每一个分配槽道系呈一圆形槽道的型式,该不同的分配槽道均同心地延伸,其中属于一个进入到流床(21b)的分配器的分配通道(24b,28b)的出口(241b,281b)在每一种情形下均位在一条圆形的进给线上,其中属于不同分配器的进给线同心地延伸,使其具有一个共同的几何中心。8. 如申请专利范围第7项所述的流动单元,其中该流床(21b)系呈一圆形的造形,并在其周圆上有径向的通道(211b)与之结合,该圆的中心与该进给线的共同几何中心重合,该圆的外周圆位在具有最小半径的进给线上,而该流床(21b)则由该进给线处延伸,呈径向通道(211b)的型式位于具有最小半径的进给线的出口(241b)之间,一直延伸到该分配通道(28b)的向外的出口(281b)处。9. 如申请专利范围第2项所述的流动单元,其中供应通道(22a,26a)到分配槽道(23a,27a)的数目与分配通道(24,28)的数目一样,其中每一个分配器可以有一百条之多,特别是少于三十条分配通道(24,28)。10. 如申请专利范围第2项所述的流动单元,其中该分配通道@ps9,7 (24,28,24b,28b)@ps9,9.3 系以钻孔的型式形成,其在流床中以一倾斜的角度形成,其直径由10(到1000(,特别是少于600(。11.如申请专利范围第1项所述的流动单元,其中该流床(21,21)有一深度由10(到1000(,特别是少于200(者。12.如申请专利范围第3项所述的流动单元,其中该流动通道(29),具有一宽度由10(到1000(之间,特别是少于600(。13.如申请专利范围第3项所述的流动单元,其中该流动通道(29)具有一深度由10(到1000(,特别是少于200(。图示简单说明:第一图为依据本发明的流动单元的第一实施例的主体平面图,其系由盖片处看得者(盖片已被移开),第二图为依据本发明的流动单元的第一实施例沿着第一图的线II-II所得的截面图(具有盖片),第三图为依据本发明的流动单元的第一实施例的一种变化型的主体平面图,其系由基座片体处看得者(基座片体已被移开),以及第四图为依据本发明的流动单元的第二实施例的主体平面 |
