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마이크로리소그래피를 위한 프로젝션 노출 설비는 복수의 미러(M1 내지 M6)를 갖는 이미징 광학 시스템(6)을 갖는다. 미러는 이미지 평면(8)에서의 이미지 필드에서 물체 평면(4)에서의 물체 필드를 이미징한다. 미러 중 하나(M6)는 이미징 광(3)이 통과할 관통-구멍(23)을 갖는다. 적어도 하나의 미러(M1 내지 M6)의 반사 표면은 회전 대칭 함수로 설명될 수 없는 자유-형태 표면의 형태이다. 더욱이, 프로젝션 노출 설비는 조명 및 이미징 광(3)을 위한 광원과, 조명 광(3)을 이미징 광학 시스템(6)의 물체 필드로 나아가게 하는 렌즈 시스템을 갖는다. 레티클 및 웨이퍼를 제공함으로써, 그리고 레티클 상의 구조를 웨이퍼의 광-감지 층상으로 투사함으로써, 그리고 웨이퍼 상에 미세구조를 제작함으로써, 미세구조 성분은 프로젝션 노출 설비로 제작된다. 물체 및 이미지 평면이 서로 교환되는 대응하는 이미징 광학 시스템은 현미경 렌즈로서 사용될 수 있다. 이것은 개선된 이미징 특성 및/또는 미리 결정된 치수에서 미러의 더 간단한 생산 능력을 갖는 이미징 광학 시스템을 제작한다. |
