| 主权项 |
1. 一种影像形成装置,包含:一可旋转光敏构件,包括一导电座及一定位在该座表面之光敏层;充电装置,定位在接近该光敏构件处,用于使得该光敏层充电;电荷消除装置,定位在该光敏构件旋转方向中而相对于该充电装置之上流处,用于在该充电装置实施充电之前,对该光敏层来照射光,而使得该光敏层之表面电位均匀;光照射装置,用于照射光到受该充电装置充电状态中之该光敏层的充电区,而且,用于调整所要照射之光量;曝光装置,用于对在充电状态中之该光敏层来照射对应一影像的光;显像装置,定位在该光敏构件旋转方向中而相对于该曝光构件之下流处;变化检测装置,用于检测该光敏层之充电电位、及该光敏层之光敏感度中之至少其一;及补偿装置,用于根据该变化检测装置所获得结果,以调整该光照射装置对该充电区所照射光量来补偿变化。2. 一种影像形成装置,包含:一可旋转光敏构件,其包括一导电座及一定位在该座表面上之光敏层;充电装置,定位在接近该光敏构件处,用于使得该光敏层充电;电荷消除装置,定位在该光敏构件旋转方向中而相对于该充电装置之上流处,用于在该充电装置实施充电之前,对该光敏层来照射光,而使得该光敏层之表面电位均匀;光照射装置,用于照射光到受该充电装置充电状态中之该光敏层的充电区,而且,用于调整所要照射之光量;曝光装置,用于对在充电状态中之该光敏层来照射对应一影像的光;显像装置,定位在该光敏构件旋转方向中而相对于该曝光装置之下流处;作业装置,用于输出一调整信号,来设定该光敏层之充电电位、及该光敏层之光敏感度中至少其一,在预先所判定多数不同値中之一値处;及补偿装置,用于根据该调整信号,来调整该光照射装置对该充电区所照射之光量,而设定该光敏层之充电电位、及该光敏层之光敏感度中至少其一,在预先所判定多数不同値中之一値处。3. 一种影像形成装置,包含;一可旋转光敏构件,其包括导电座及一定位在该座表面之光敏层;充电装置,定位在接近该光敏构件处,用于使得该光敏层充电;电荷消除装置,定位在该光敏构件旋转方向中而相对于该充电装置之上流处,用于在该充电装置实施充电前,对该光敏层来照射光,而使得该光敏层之表面电位均匀;光照射装置,用于照射光到受到该充电装置充电状态中之该光敏层的充电区,而且,用于调整所要照射光量;曝光装置,用于对在充电状态中之该光敏层来照射对应一影像的光;显像装置,定位在该光敏构件旋转方向中而相对于该曝光装置之下流处;作业装置,用于输出一调整信号,来设定该光敏层之充电电位,及该光敏层之光敏感度中至少其一,在预先所判定至少两不同値中之一値处;及补偿装置,用于根据该调整信号,来设定该光敏层之充电电位、及该光敏层之敏感度中至少其一,在至少两不同値中之一値处;选择预先所判定至少两不同値中之一値处,以使改变该光敏层对该影像之伽玛特性。4.如申请专利范围第3项之影像形成装置,其中该光敏层之光敏感度以该补偿装置来设定在两不同値处。5.如申请专利范围第3项之影像形成装置,其中该补偿装置所设定该光敏层之光敏感度,是选自至少三个不同値。6.如申请专利范围第1项之影像形成装置,其中该电荷消除装置作用为该光照射装置。7.如申请专利范围第2项之影像形成装置,其中该电荷消除装置作用为该光照射装置。8.如申请专利范围第3项之影像形成装置,其中该电荷消除装置作用为该光照射装置。9.如申请专利范围第1项之影像形成装置,其中该光照射装置包括和该电荷消除装置不同之发光装置。10.如申请专利范围第2项之影像形成装置,其中该光照射装置包括和该电荷消除装置不同之发光装置。11.如申请专利范围第3项之影像形成装置,其中该光照射装置包括和该电荷消除装置不同之发光装置。12.如申请专利范围第1项之影像形成装置,其中该光照射装置产生光来做为脉冲。13.如申请专利范围第2项之影像形成装置,其中该光照射装置产生光来做为脉冲。14.如申请专利范围第3项之影像形成装置,其中该光照射装置产生光来做为脉冲。15. 如申请专利范围第9项之影像形成装置,其中:该充电装置,其包括一放电构件用于对该光敏层来实施放电、及一包围该放电构件及对该光敏层来开口之第一盒;该光照射装置,其包括一发光构件、及一包围该发光构件及对该光敏层之充电区来开口之第二盒;及该第一盒及该第二盒具有共用部份。16. 如申请专利范围第10项之影像形成装置,其中:该充电装置,其包括一放电构件用于对该光敏层来实施放电、及一包围该放电构件、及对该光敏层来开口之第一盒;该光照射装置,其包括一发光构件及一包围该发光构件及对该光敏层之充电区来开口之第二盒;及该第一盒及该第二盒具有共用部份。17. 如申请专利范围第11项之影像形成装置,其中:该充电装置,其包括一放电构件用于对该光敏层来实施放电、及一包围该放电构件及对该光敏层来开口之第一盒;该光照射装置,其包括一发光构件、及一包围该发光构件及对该光敏层之充电区来开口之第二盒;及该第一盒及该第二盒具有共用部份。18.如申请专利范围第1项之影像形成装置,其中该补偿装置包括用于驱动该光照射装置之发光驱动装置、及用于设定该光照射装置所照射光量之光量设定装置。19.如申请专利范围第2项之影像形成装置,其中该补偿装置包括用于驱动该光照射装置之发光驱动装置、及用于设定该光照射装置所照射光量之光量设定装置。20.如申请专利范围第3项之影像形成装置,其中该补偿装置包括用于驱动该光照射装置之发光驱动装置、及用于设定该光照射装置所照射光量之光量设定装置。图示简单说明:图1表示根据本发明第一实例之影像形成装置的示意图;图2表示根据影像形成过程之光敏层表面电位的图表;图3表示在显像装置所形成色粉影像密度和在显像位置处之光敏层表面电位的关系图表;图4表示在显像位置处之光敏层表面电位降低和电荷消除灯所照射光量的关系图表;图5表示光学装置实施主曝光后光敏层表面电位和用于主曝光之光量的关系图表;图6表示记忆体中所储存补偿资料之图表;图7表示为自800伏特(V)之光敏层表面电位降低到250伏特,所需用于主曝光光量和用于带有充电之曝光光量的关系图表;图8表示用于调整带有充电之曝光光量的装置示意图;图9表示用于调整带有充电之曝光光量的另一装置示意图;图10表示根据本发明第二实例之影像形成装置的示意图;图11表示图10所示影像形成装置之补偿作业流程图;图12表示根据本发明第三实例之影像形成装置的示意图;图13表示图12所示影像形成装置,所获得在记录纸张上形成影像之密度、及原稿文件之密度,其两者密度间之关系图表;图14表示在图12所示影像形成装置中,光敏层表面电位和具有充电之曝光光量的关系图表;图15是利用电子照相技术之习用影像形成装置的示意图;图16是习用以补偿光敏层光敏感度之不均匀性的装置示意横剖面图;及图17表示光敏层由有机材料及无机材料所形成之情形中 |
