| 主权项 |
1. 一种翻转镜置,由至少一面翻转镜,一个基体及至少一个翻转支承(该支承在翻转镜及基体之间有一个玉少是近乎固定的旋转点)组成,其特征在于当镜面对角线长度小于40mm时整个装置(翻转镜、支承及位于翻转镜下面的基体及其他的配件)在镜面上的投影不会超出镜面范围,或是在该翻转镜偏移时,整个装置在镜面上的投影也只是略微超出镜面范围。2. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜支承会自动对准一旋转点定心。3. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜对角线及该基体对角线的长度均小于15mm。4. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于该翻转角度大于0.5@bs3。5. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于在该翻转镜及该基体之间设有一个支撑装置。6. 根据申请专利范围第5项之翻转镜装置,其特征在于该支撑装置为一弹簧。7. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于至少在一个事先设定的翻转镜装置最佳倾斜位置处安装有一个翻转镜重量平衡装置。8. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜装置中设置有一个可施加不同大小之作用力的施力装置,使操作者可在装置外控制翻转角度的改变。9. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜底面有一延长区,该施力装置所施加不同大小之作用力即作用于此延长区上。10. 根据申请专利范围第9项之翻转镜装置,其特征在于该延长区上至少有一个点/面垂直于翻转轴。11.根据申请专利范围第10项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜下方侧面至少设有一个施力装置。12. 根据申请专利范围第8项之翻转镜装置,其特征在于该施力装置为一垂直于翻转轴弯曲的弯曲体,其下端固定于基体上,且在弯曲体与翻转镜之间设置有一机械联结。13. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜支承的摩擦阻力很小(或无摩擦阻力)。14. 根据申请专利范围第8项之翻转镜装置,其特征在于采用一弯曲压电传动机构或条带压电传动机构作为施力装置。15. 根据申请专利范围第8项之翻转镜装置,其特征在于该施力装置至少是一个具有可变磁场强度的装置,且在翻转镜上至少有一个固定的磁铁(其高度位置与可朝向其移动的线圈的高度位置相同)。16. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜底面下方至少有一个位于翻转轴之外的翻转位置探测器。17. 根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于由多数翻转镜装置组成一个阵列。18. 根据申请专利范围第17项之翻转镜装置,其特征在于该阵列的组成方式容许在阵列的各面连接其他相同的阵列。19. 根据申请专利范围第17项之翻转镜装置,其特征在于该翻转镜组成的阵列构成一个六角型的形状。20.根据申请专利范围第1项之翻转镜装置,其特征在于在该基体上设置一接片,该接片的一个止动部份突出至翻转镜底面中间,在止动部份上方有一开口角度为的锥形开口,而翻转镜下方有一顶角为且尖端朝下的圆锥,且该的角度値大于该的角度値。图示简单说明:图1:本发明之翻转镜装置的第二种构造方式的3度空间正视图。图2a:图1所示之翻转镜装置在Y-Z平面上穿过镜架部分的断面图。图2b:图1所示之翻转镜装在X-Z平面上穿过镜架部分的断面图。图3:本发明之翻转镜装置的第一种构造方式的侧面断面图。图4:图3中靠镜面侧的基本体的3度空间正视图。图5:图3中具有位置感应器的本发明之翻转镜装置的第3种构造方式的正视图。图6:具有另外一种施力装置的本发明之翻转镜装置的第4种构造方式的侧视图。 |
