| 主权项 |
1.一种显示面,其系具有:基板,与具有形成于上述基板上之点或线条之任一形状复数孔之黑矩阵之显示面,其特征为;上述黑矩阵系由,包含平均粒径0.005-0.2m之颜料微粒子之微粒子颜料层,及形成于上述微粒子颜料层上之包含平均粒径0.2-5m之黑色颜料粒子之黑颜料层所成之叠层体所成。2.如申请专利范围第1项之显示面,其中,上述点为矩形,圆形之任一。3.如申请专利范围第1项之显示面,其中,上述颜料微粒子之平均粒径为0.01-0.15m。4.如申请专利范围第1项之显示面,其中,上述微粒子颜料层之膜厚为0.01-0.5m。5.如申请专利范围第1项之显示面,其中,上述颜料微粒子系由黑色颜料粒子,彩色颜料粒子,及氧化矽粒子所成群组所选择之至少一种。6.如申请专利范围第1项之显示面,其中,上述颜料微粒子之平均粒径,与上述黑色颜料粒子之平均粒径之粒径比为0.5以下。7.一种显示面之制造方法,其特征为备有;在基板上,涂布,乾燥抗蚀剂以形成抗蚀涂布膜之制程,将抗蚀涂布膜形成图样,以形成复数之点或线条形状之抗蚀图样,涂布,乾燥包含平均粒径为0.005-0.2m之颜料微粒子之溶液,以形成微粒子颜料层之制程,在上述微粒子颜料层上涂布,乾燥平均粒径为0.2-5m之黑色颜料粒子之黑色颜料溶液以形成黑色颜料层,以获得微粒子颜料层与黑色颜料层之叠层体之制程,在上述叠层体上,适用抗蚀剂分解剂,以分解抗蚀图样,同样,剥离抗蚀图样上之上述叠层体,在上述叠层体中,形成复数之点或线条形状之孔之制程。8.如申请专利范围第7项之方法,其中,上述点为矩形,图形之任一。9.如申请专利范围第7项之方法,其中,上述颜料微粒子之平均粒径为0.01-0.15m。10.如申请专利范围第7项之方法,其中,上述微粒子颜料层之膜厚为0.05-0.5m之范围。11.如申请专利范围第7项之方法,其中,上述颜料微粒子系由黑色颜料粒子,彩色颜料粒子,及氧化矽粒子所成群组所选择之至少一种。图示简单说明:第一图(a)及(b),系说明本发明之作用效果所用之模型图,第一图(a)系表示习知例,第一图(b)系表示本发明之显示面。第二图(a)及(b),系说明本发明之其他作用效果所用之模型图,第二图(a)系表示习知例,第二图(b)系表示本发明之显示面。第三图(a)及(b),系说明本发明之另外其他作用效果所用之模型图,第三图(a)系表示习知例,第三图(b)系表示本发明之显示面。第四图(a)至(d)系表示本发明一实施例之制程图。第五图系表示习知黑矩阵一例之图。第六图(a)至(c)系说明习知黑矩阵制造方法一例之图。第七图系表示有关本发明显示面之荧光面之图。 |
