发明名称 RESIST COMPOSITION METHOD OF FORMING RESIST PATTERN NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
摘要 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 변화되는 기재 성분 (A), 및 노광에 의해 산을 발생하는 산발생제 성분 (B) 를 함유하는 레지스트 조성물로서, 산발생제 성분 (B) 는 일반식 (I) [식 중, R는 카르보닐기, 에스테르 결합, 또는 술포닐기를 갖는 유기기를 나타내고, Q 는 2 가의 연결기이다.] 로 나타내는 기를 카티온부에 갖는 화합물로 이루어지는 산발생제 (B1) 을 함유하는 것을 특징으로 하는 레지스트 조성물. [화학식 1]
申请公布号 KR101660041(B1) 申请公布日期 2016.09.26
申请号 KR20090114474 申请日期 2009.11.25
申请人 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 发明人 가와우에 아키야;우츠미 요시유키;하다 히데오;세시모 다케히로;마츠자와 겐스케;이시두카 게이타;엔도 고타로
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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