发明名称 SUBSTRATE TREATING APPARATUS
摘要 본 발명은 기판 처리 장치에 있어서, 풉이 안착되는 복수의 로드 포트와; 웨이퍼의 수취를 위한 이송 암을 갖는 이송 로봇과; 상기 풉이 상기 로드 포트에 안착 가능하도록 정렬되는 제1 정렬 위치와, 상기 이송 암의 회전 반경 내에서 상기 이송 암이 상기 풉 내부로 삽입 가능하도록 상기 이송 암의 회전 반경 내에 정렬되는 제2 정렬 위치 중 어느 하나로 상기 복수의 로드 포트가 정렬되도록 상기 복수의 로드 포트 중 적어도 어느 하나를 이동시키는 포트 구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 풉에 적재되는 웨이퍼를 이송하기 위한 이송 로봇의 직선 운동을 제거하여 이송 로봇의 흔들림을 방지하고 프로세스 타임을 감소시킬 수 있다.
申请公布号 KR101659733(B1) 申请公布日期 2016.09.26
申请号 KR20090131416 申请日期 2009.12.28
申请人 주식회사 테스 发明人 김진성
分类号 H01L21/677 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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