发明名称 NOVEL ACRYL MONOMER POLYMER AND RESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
摘要 본 발명은 레지스트 첨가제 형성용 단량체로서 유용한 하기 화학식 1의 아크릴계 단량체, 이로부터 유도된 반복단위를 포함하는 레지스트 첨가제용 중합체 및 이를 포함하는 레지스트 조성물에 관한 것으로, 상기 중합체는 하기 화학식 1의 아크릴계 단량체로부터 유도된 반복단위를 포함하여, 액침 리소그래피법에 의한 미세 가공 중 노광 공정시 레지스트막 표면의 소수성을 높여 물에 의한 리칭을 억제할 수 있고, 노광 후 현상 공정시에는 친수성으로 전환되어 레지스트 막 표면이 낮은 정적 접촉각을 갖도록 함으로써, 우수한 감도 및 해상도를 갖는 미세 레지스트 패턴을 형성할 수 있다: [화학식1]상기 식에서 각 치환기는 명세서 중에서 정의된 바와 같다.
申请公布号 KR101659915(B1) 申请公布日期 2016.09.26
申请号 KR20120095137 申请日期 2012.08.29
申请人 금호석유화학 주식회사 发明人 배창완;김삼민;윤대경;유인영;황석호
分类号 C07C57/04;C08F20/10;G03F7/004 主分类号 C07C57/04
代理机构 代理人
主权项
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